本书共19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性,DFM(Design for Manufacturing),集成电路检测与分析、集成电路的可靠性,生产控制,良率提升,芯片测试与芯片封装等内容。 再版时加强了半导体器件方面的内容,增加了先进的FinFET、3D NAND存储器、CMOS图像传感器以及无结场效应晶体管器件与工艺等内容。
本书以实际应用为出发点,对集成电路制造的主流工艺技术进行了逐一介绍,例如应变硅技术、HKMG技术、SOI技术和FinFET技术,然后从工艺整合的角度,通过图文对照的形式对典型工艺进行介绍,例如隔离技术的发展、硬掩膜版工艺技术、LDD工艺技术、Salicide工艺技术、ESD IMP工艺技术、AL和Cu金属互连。然后把这些工艺技术应用于实际工艺流程中,通过实例让读者能快速的掌握具体工艺技术的实际应用。 本书旨在向从事半导体行业的朋友介绍半导体工艺技术,给业内人士提供简单易懂并且与实际应用相结合的参考书。本书也可供微电子学与集成电路专业的学生和教师阅读参考。
《数字集成电路测试 理论、方法与实践》全面介绍数字集成电路测试的基础理论、方法与EDA实践。第1章为数字集成电路测试技术导论,第2~9章依次介绍故障模拟、测试生成、可测试性设计、逻辑内建自测试、测试压缩、存储器自测试与自修复、系统测试和SoC测试、逻辑诊断与良率分析等基础测试技术,第10章扩展介绍在汽车电子领域发展的测试技术,第11章对数字电路测试的技术趋势进行展望。 针对每一种数字集成电路测试技术,本书一方面用示例讲述其技术原理,另一方面用电子设计自动化(EDA)的商业工具对具体实例演示技术应用过程(EDA工具应用脚本及其说明可在配套资源中下载),并在每章后附有习题。通过本书,读者一方面可以学习到基本的测试理论和相关技术;另一方面,还可以对当今芯片设计流程和EDA工具链中测试技术的运用和实践有所了解。 《
当前和今后一段时期将是我国集成电路和光电芯片技术发展的重要战略机遇期和攻坚期,加强自主集成电路和光电芯片技术的研发工作,布局和突破关键技术并拥有自主知识产权,实现集成电路产业的高质量发展是我国当前的重大战略需求。《中国集成电路与光电芯片 2035发展战略》面向 2035年探讨了国际集成电路与光电芯片前沿发展趋势和中国从芯片大国走向芯片强国的可持续发展策略,围绕上述相关方向开展研究和探讨,并为我国在未来集成电路和光电芯片发展中实现科技与产业自立自强,在国际上发挥更加重要作用提供战略性的参考和指导意见。
本书通过具体案例和大量彩色图片,对CMOS集成电路设计与制造中存在的闩锁效应(Latch-up)问题进行了详细介绍与分析。在介绍了CMOS集成电路寄生效应的基础上,先后对闩锁效应的原理、触发方式、测试方法、定性分析、改善措施和设计规则进行了详细讲解,随后给出了工程实例分析和寄生器件的ESD应用,为读者提供了一套理论与工程实践相结合的闩锁效应测试和改善方法。 本书面向从事微电子、半导体与集成电路行业的朋友,旨在给业内人士提供简单易懂并且与实际应用相结合的图书,同时也适合相关专业的本科生和研究生阅读。
本书借由集成线性稳压器的设计,全面介绍了模拟集成电路的设计方法,包括固态半导体理论、电路设计理论、模拟电路基本单元分析、反馈和偏置电路、频率响应、线性稳压器集成电路设计以及电路保护和特性等。本书从面向设计的角度来阐述模拟集成电路的设计,强调直觉和直观、系统目标、可靠性和设计流程,借助大量的实例,向初学者介绍整个模拟集成电路的设计流程,并引导其熟悉应用,同时本书也适用于有经验的电源集成电路设计工程师,不仅能帮助他们对模拟电路和线性稳压器的理论有更深刻的理解,而且书中所呈现的线性稳压器的技术发展也可以给予他们很多启发,是一本难得的兼具实用性和学术价值的模拟集成电路和集成线性稳压器设计的教科书和参考书。
本书主要针对低压和高压电源管理电路设计进行了详细讨论。本书力求简化电路模型的数学分析,重点研究电源管理电路的功能和实现。本书中包含了大量电路示意图,以帮助读者理解电源管理电路的基本原理和工作方式。在具体内容方面,本书分章介绍了低压和高压器件、低压差线性稳压器设计、电压模式和电流模式开关电源稳压器、基于纹波的控制技术、单电感多输出转换器、基于开关的电池充电器以及能量收集系统等方面的内容。 本书内容详实、实例丰富,可作为高等院校电子科学与技术、电子信息工程、微电子、集成电路工程等专业高年级本科生和硕士研究生的课程教材,亦可作为从事集成电路、系统级设计,以及电源管理芯片设计和应用的工程技术人员的参考书籍。
本书是一本关于半导体芯片制造全景的入门书。 本书以轻松有趣的风格全面讲解芯片制造工厂的基础设施、设备、相关制造工艺、原理、材料、检验等相关信息,从科普到深入的 工厂 视角,沉浸式讲解芯片制造产业,读者不仅可以从传统角度理解半导体芯片,还可以从人、产品、资金和产业的角度全面理解半导体芯片。关于芯片制造工厂的知识不仅值得相关行业的人员学习,也可以作为其他行业的人员在制造方面的参考。 本书适合集成电路行业的从业者、研究者、相关专业师生和感兴趣的大众读者阅读。
内容简介: 本书是模拟CMOS集成电路设计方面的经典教材,介绍模拟CMOS集成电路的分析与设计,着重讲解该技术的*进展和设计实例,从MOSFET器件的基本物理特性开始,逐章分析CMOS放大单元电路、差分放大器、频率响应、噪声、反馈放大器与稳定性、运算放大器、电压基准源与电流基源、离散时间系统、差分电路及反馈系统中的非线性、振荡器和锁相环等基础模拟电路的分析与设计。本书还介绍了集成电路的基本制造工艺、版图和封装设计的基本原则。本书自出版以来得到了国内外读者的好评和青睐,被许多国际知名大学选为教科书。同时,由于原著者在世界知名*公司的丰富研究经历,使本书也非常适合作为CMOS模拟集成电路设计或相关领域的研究人员和工程技术人员的参考书
《单片机三剑客:ESP32单片机与Python语言编程》采用大量实例和程序逐行解说的方式介绍ESP32单片机与Python语言编程,主要内容有ESP32单片机与编程软件入门,Python语言入门,LED、数码管和RGB全彩灯电路及编程实例,按键输入与蜂鸣器、继电器电路及编程实例,直流电动机、步进电动机与舵机驱动电路及编程实例,中断、定时器与PWM功能的使用及编程实例,ADC与声/光/热/火/雨/烟传感器的使用及编程实例,常用传感器模块的使用及编程实例,超声波传感器与红外线遥控的使用及编程实例,串行通信(UART)与实时时钟(RTC)的使用及编程实例,单总线通信与温湿度传感器的使用及编程实例,I2C通信控制OLED屏与PS2摇杆的使用及编程实例,SPI通信与SD卡/RFID卡的读写编程实例,单片机连接WiFi网络与计算机进行通信,用浏览器网页控制和监视单片机,基于MQTT协议的物联网(IoT)通信。 本书具有起点低、由浅
本书分上、中、下三册,全方位、多角度地介绍集成电路全产业链各个环节的相关知识。既综合了集成电路发展历程、应用技术、产业经济、未来趋势等内容,也详细讲解了集成电路设计、制造、生产线建设、封装测试、专用设备、专用材料等内容,还介绍了集成电路的新技术、新材料、新工艺以及前沿技术发展方向等具有前瞻性的新知识。
本书主要介绍模拟集成电路的分析和设计,每章均配有基于华大九天Empyrean Aether 的实例,注重理论基础和实践的结合。全书共13 章,前6 章从半导体物理和器件物理的基础开始,逐步讲解并分析模拟集成电路中的各种基本模块;第7 章介绍带隙基准电路;第8~10 章主要讨论模拟电路的噪声、反馈和稳定性、运算放大器等内容;第11~13 章针对常用的复杂模拟集成电路展开讨论,主要括开关电容放大器、模数转换器与数模转换器、锁相环等。本书点如下:(1)本书是国内第一本基于国产EDA工具讲授模拟IC设计的理论和实践教材,对书中的案例配以详细的实践案例;(2)本书从基础理论出发,系统全面讲解了模拟IC设计的全内容,并配以详尽的原理阐释、公式推导和案例分析;(3)本书内容体系完备,不仅可用于本科生模拟IC设计的入门教材,也可用于研究生段进一步
本书主要介绍基于国产微波射频电路全流程设计平台AetherMW进行微波射频电路设计与仿真的方法。本书将基本概念、模块设计与系统设计相结合,内容涉及微波射频系统概述、阻抗匹配电路设计、功率分配器设计、定向耦合器设计、射频滤波器设计、射频放大器设计、混频器设计、雷达射频前端设计与仿真、常用测量仪器及AetherMW等。书中各模块设计均从实际的工程技术指标入手,按照"理论分析—模块分割—指标参数计算—电路仿真与实现”的过程开展,重点关注通用微波射频电路的理论知识及设计方法,力图达到概念清晰、思路流畅、方法多样、过程明了、理论联系实际的效果,满足微波射频工程领域不同层次的读者的需求。
本书讲解了集成电路的基础理论,阐述了集成电路设计、制备工艺、封装以及测试方法,介绍了新型材料、新型工艺、新型封装等先进知识。主要内容包括:集成电路技术基础、半导体物理、半导体器件、集成电路制造工艺技术、集成电路设计、集成电路封测技术、半导体技术发展。本书注重可读性和易学性,借助实例将各部分知识整合,通俗易懂,深入浅出,可供集成电路、芯片、半导体及相关行业的工程技术人员及入门级读者使用,也可作为教材供高等院校相关专业师生学习参考。
本书将理论与现实应用进行了有效的融合。作者将重点放在实际环境中以帮助学生获得实际的感悟,并提供一种作出正确合理设计决策的方法。本书文笔流畅,描述直接明快,易为读者所接受。本书是为面向运算放大器和模拟集成电路设计的课程所用,对实际工作的工程师也是一本综合性的参考书。
本书依托Cadence Virtuoso版图设计工具与Mentor Calibre版图验证工具,采取循序渐进的方式,介绍利用Cadence Virtuoso与Mentor Calibre进行CMOS模拟集成电路版图设计、验证的基础知识和方法,内容涵盖了CMOS模拟集成电路版图基础知识,Cadence Virtuoso与Mentor Calibre的基本概况、操作界面和使用方法,CMOS模拟集成电路从设计到流片的完整流程,同时又分章介绍了利用Cadence Virtuoso版图设计工具、Mentor Calibre版图验证工具及Synopsys Hspice电路仿真工具进行CMOS电路版图设计与验证、后仿真的实例,包括运算放大器、带隙基准源、低压差线性稳压源、比较器和输入/输出单元。
本书主要介绍微/纳机电系统(MEMS/NEMS)谐振器动力学设计理论、分析方法及应用技术。全书共9章,主要内容包括:MEMS/NEMS技术基础和MEMS/NEMS谐振器技术的发展历程与发展趋势;谐振器的工作原理、谐振结构设计理论及分析技术;谐振器件制备涉及的材料、微纳加工工艺及技术;谐振器中存在的丰富非线性现象和复杂动力学行为;微纳尺度下的能量耗散理论、阻尼特性、作用机制及测试方法;谐振器中应用的各种振动激励与检测原理及技术;通道式MEMS/NEMS谐振器检测原理、动力学设计与分析技术;微纳尺度下谐振器件的模态弱耦合作用机制、谐振器设计及传感技术;谐振器中存在的典型失效模式与失效机理,以及多种可靠性评估方法和测试技术。
材料作为当今社会现代文明的重要支柱之一,在科技发展的今天发挥着越来越重要作用。材料科学与工程基础类课程是各高等院校材料专业的必修课和核心专业课。本书在材料科学与工程类课程基础上,结合当今材料专业的现状和材料人才的发展需求,以集成电路材料学科中的基础理论和工程工艺问题为主线,与相关学科和学科分支交叉,应用于集成电路材料设计、制备、成型、性能和工艺等关键问题的求解。本书主要介绍材料化学方面的基础知识,包括材料的组成、材料的结构、材料的性能、材料的制备与成型加工,以及集成电路衬底、工艺和封装三大类材料与制备工艺。
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺,内容直接取材于国际先进集成电路制造技术,为了保证先进性,特别侧重于 32nm 节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例,这些实例都是经过生产实际验证的,希望能对读者有所启发。
《卤族元素》为“无机化学探究式教学丛书”的第18分册。《卤族元素》共5章,主要包括卤素的单质、卤素简单化合物及拟卤素、卤素的含氧酸及其盐、卤素的生理性质及应用、卤素的分析测定。另外,《卤族元素》编写了3个“历史事件回顾”和1个“研究无机化学的物理方法介绍”共4个专题,以增加《卤族元素》的趣味性、启发性和应用性。《卤族元素》涵盖了无机化学卤族元素的基础知识,并适当扩展了其生理性质、分析测定及科研进展内容,是一本基础知识与科技前沿并重的教材。