本书分4篇探讨晶体生长的原理与技术。第一篇为晶体生长的基本原理，分5章对晶体生长的热力学原理、动力学原理、界面过程、生长形态及晶体生长初期的形核相关原理进行论述。第二篇为晶体生长的技术基础，分3章进行晶体生长过程的涉及传输行为(传质、传热、对流)、化学基础问题(材料的提纯与合成问题)以及物理基础(电、磁、力的作用原理)的综合分析。第三篇为晶体生长技术，分4章分别对以 Bridgman法为主的熔体法晶体生长、以 Czochralski方法为主的熔体法晶体生长、溶液法晶体生长以及气相晶体生长技术与最新发展进行介绍。第四篇分2章分别对晶体生长过程中缺陷的形成与控制和晶体的结构与性能表征方法进行论述。

无机闪烁晶体经历了半个多世纪的发展，如今已经成为功能晶体材料中一颗璀璨的明珠。本书在广泛汲取国内外相关文献的基础上，结合作者所在单位过去四十多年所开展的相关研究工作，比较系统地总结了典型无机闪烁晶体材料的结构和性能特征、闪烁发光机理、晶体缺陷、晶体制备的关键技术以及商用无机闪烁晶体在辐射探测技术领域的应用情况。全书共 8章，第 1章和第 2章从闪烁发光的基本概念和基本原理入手，以简洁通俗的方式阐述闪烁晶体的发光过程、发光机理，以及闪烁性能的测试和表征方法。第 3～第 7章按照材料的化学成分分别对卤化物、锗酸铋、钨酸盐、硅酸盐和铝酸盐等五个类别中的典型闪烁晶体进行介绍，阐述其结构、性能、生长方法、生长缺陷，以及制备技术等。第 8章集中展示了闪烁材料在核物理、高能物理、核医学和安全检测等主要领

本书是高分辨电子显微学和图像处理方面的专著，共分三篇，篇介绍了运动学和动力学衍射理论、各类电子衍射花样、晶体对称性的会聚束电子衍射测定、晶体结构的衍射分析方法，以及基于动力学电子衍射的晶体结构因子测定；第二篇介绍了高分辨电子显微像的成像原理、像衬度及其近似理论、像的理论计算以及借助高分辨电子显微像测定晶体结构的模型法；第三篇简单介绍了高分辨电子显微像的各种图像处理方法，着重于高分辨电子显微学的求逆，包括从显微像求定出射波和从显微像直接求定晶体结构。其中电子晶体学图像处理技术及其在测定晶体结构和缺陷中的应用是第三篇的重点，亦是全书的重点。 本书可作为从事电子晶体学研究和显微图像处理技术方面的研究人员和高等院校师生的参考书。

本书系统地介绍了多晶X射线衍射技术的原理、仪器、方法和应用。全书内容循序渐进，在介绍X射线的物理基础、射线强度检测技术及其发展、晶体和晶体衍射的理论知识基础上，着重阐述了X射线衍射仪器和多晶衍射仪的原理，详细论述了如何获得正确的衍射数据、如何评估衍射实验数据的可信度以及仪器的工作状态等实验技术问题。之后，又在物相分析、晶面间距或晶胞参数精测、峰形分析三方面深入介绍了多晶衍射数据在各方面的实际应用，列举了一些实例和已发布的应用多晶衍射的测试方法标准。本书凝结了作者50余年的X射线仪器研发和应用经验，具有很强的实用性，可供化学、化工、材料、矿冶等领域中从事固体物质材料分析鉴定的研究人员和X射线衍射仪器操作的技术人员参考。

《现代化学专著系列：晶态聚合物结构和X射线衍射（第2版）》是一本较全面反映X射线在聚合物各领域应用的专著，全书共十五章。章至第五章论述了相关基础理论：聚合物X射线晶体学基础、晶态聚合物、X射线物理基础、聚合物X射线衍射、实验方法；第六章至第_f1五章较全面介绍了X射线衍射在聚合物中的具体应用：聚合物X射线衍射图分类、聚合物材料的结构鉴定、多晶法测定聚合物晶体结构、聚合物材料的结晶度、聚合物材料的取向度、聚合物材料微晶尺寸和点阵畸变、聚合物材料的小角X射线散射、聚合物材料掠入射X射线衍射、非晶态聚合物材料的X射线散射、同步辐射X射线散射等。《现代化学专著系列：晶态聚合物结构和X射线衍射（第2版）》可作为高等院校和科研院所高分子专业研究生的教学用书，对从事高分子科研和生产技术与工程技术的人员来说，也

本书从液晶物理和化学基础出发，详细介绍了液晶光学，并讨论了各类液晶显示的原理，结构和特性，深入介绍了高端应用中液晶显示的新发展，以及各类光学薄膜的应用。后介绍了液晶显示的制备、驱动和测量。本书是液晶光学和液晶显示的基础和进展的学科概述，包含了作者多年研究的经验。以内容的科学性和实用性为主，同时兼顾基础性和连贯性。

《牛津大学研究生教材·固体缺陷理论（卷）：绝缘体和半导体中缺陷的电子结构》内容涉及的范围尽可能广泛，尽管我可能漏掉了读者所钟爱的缺陷，我希望所讨论的一些足够类似的体系将会有所帮助。我觉得没有义务去讨论所有被看到的或声称存在的缺陷，而且我有意少花些时间在那些别处已经深入讨论过的内容，例如过渡金属离子。相反地，我力求强调那些文献中讨论很少的一些重要特性，并且阐述那些仍然存在争议的论点。

《牛津大学研究生教材·固体缺陷理论（卷）：绝缘体和半导体中缺陷的电子结构》内容涉及的范围尽可能广泛，尽管我可能漏掉了读者所钟爱的缺陷，我希望所讨论的一些足够类似的体系将会有所帮助。我觉得没有义务去讨论所有被看到的或声称存在的缺陷，而且我有意少花些时间在那些别处已经深入讨论过的内容，例如过渡金属离子。相反地，我力求强调那些文献中讨论很少的一些重要特性，并且阐述那些仍然存在争议的论点。

本书分4篇探讨晶体生长的原理与技术。篇为晶体生长的基本原理，对晶体生长的热力学原理、动力学原理、界面过程、生长形态以及晶体生长初期的形核相关原理进行论述。第二篇为晶体生长的技术基础，分3章进行晶体生长过程的涉及传输行为(传质、传热、对流)、化学基础问题(包括材料的提纯与合成问题)以及物理基础(电、磁、力的作用原理)的综合分析。第三篇为晶体生长技术，分4章分别对以Bridgman法为主的熔体法晶体生长、以Czochralski方法为主的熔体法晶体生长、溶液法晶体生长以及气相晶体生长技术与发展进行介绍。第四篇分2章分别对晶体生长过程中缺陷的形成与控制和晶体的结构与性能表征方法进行论述。本书可供从事晶体生长的科研和工程技术人员阅读，也可作为该领域研究生的教学参考书。