随着光电子信息技术、纳米科技和生物生命科学的发展，要求光学成像或光刻的分辨率达到亚波长甚至纳米尺度。然而，由于受到阿贝衍射极限的制约，无论是光刻的特征线宽、光盘存储器件的记录点尺寸、还是光学图像的分辨率，按照传统的衍射光学理论很难突破半波极限。对此，科研人员提出了各种方法和手段来挑战半波极限，实现纳米尺度的光学分辨率。《非线性超分辨纳米光学及应用（英文版）》首先分析和介绍了目前突破光学衍射极限的常见方法的原理和实验方案，然后聚焦于利用薄膜材料（是半导体薄膜）光学非线性效应来突破阿贝衍射极限。从薄膜材料非线性折射和吸收的表征方法出发，分析半导体薄膜以及金属掺杂半导体薄膜的非线性吸收和折射特性。
《量子轨迹的功和热》应用量子轨迹图像以相对统一的方式介绍了量子Markov型非平衡过程功和热的研究进展，包括基于两次能量投影测量定义的量子功和热、量子Feynman-Kac公式、计算和分析热力学量的特征函数方法、量子跳跃轨迹概念、定义在量子跳跃轨迹上的热力学量、量子功和热满足的各类量子涨落定理等。
