本书基于广泛应用的CMOS锁相环(PLL)设计,首先通过直观的方式展示理论概念,并逐步建立更为实用的系统;其次详细阐述振荡器、相位噪声、模拟锁相环、数字锁相环、射频频率综合器、延迟锁定环、时钟和数据恢复电路以及分频器等重要主题;然后特别介绍高级拓扑结构下的高性能振荡器设计;最后通过广泛使用电路仿真来讲述设计要领,突出设计实践的重要性。本书提供了200多个引人深思的示例来说明设计方法和常见陷阱。本书可作为集成电路工程技术人员的案头工具书以及相关专业学生的参考书,以加深对锁相环设计的理解,提高设计能力。
本书以ADS 2023为平台,介绍了射频电路的设计与仿真。主要内容包括初识ADS 2023、原理图设计基础、原理图的绘制、元器件库设计、原理图的后续处理、仿真电路设计、仿真结果显示、微波网络法仿真分析、布局图设计视图、电路板设计、电路板的后期制作、微带线设计和EM仿真分析。全书内容循序渐进,案例丰富实用,讲解通俗易懂,实例操作部分配套视频教学,扫码学习,方便快捷。同时,随书附赠全书实例素材、源文件,便于读者上手实践。本书适合从事电路设计的电子、通信领域的工程师自学使用,也可用作高等院校相关专业的教材及参考书。
本书是一本通用的集成电路封装与测试技术教材,全书共10章,内容包括:绪论、封装工艺流程、气密性封装与非气密性封装、典型封装技术、几种先进封装技术、封装性能的表征、封装缺陷与失效、缺陷与失效的分析技术、质量鉴定和保证、集成电路封装的趋势和挑战。其中,1~5章介绍集成电路相关的流程技术,6~9章介绍集成电路质量保证体系和测试技术,第10章介绍集成电路封装技术发展的趋势和挑战。 本书力求在体系上合理、完整,由浅入深介绍集成电路封装的各个领域,在内容上接近于实际生产技术。读者通过本书可以认识集成电路封装行业,了解封装技术和工艺流程,并能理解集成电路封装质量保证体系、了解封装测试技术和重要性。 本书可作为高校相关专业教学用书和微电子技术相关企业员工培训教材,也可供工程人员参考。 本书配有授课电子课件,
本书主要介绍基于国产微波射频电路全流程设计平台AetherMW进行微波射频电路设计与仿真的方法。本书将基本概念、模块设计与系统设计相结合,内容涉及微波射频系统概述、阻抗匹配电路设计、功率分配器设计、定向耦合器设计、射频滤波器设计、射频放大器设计、混频器设计、雷达射频前端设计与仿真、常用测量仪器及AetherMW等。书中各模块设计均从实际的工程技术指标入手,按照"理论分析—模块分割—指标参数计算—电路仿真与实现”的过程开展,重点关注通用微波射频电路的理论知识及设计方法,力图达到概念清晰、思路流畅、方法多样、过程明了、理论联系实际的效果,满足微波射频工程领域不同层次的读者的需求。
《硅基射频集成电路和系统》以硅基射频集成芯片系统为核心,介绍射频电路和系统基础、射频集成电路基本理论和设计方法,以及国内外硅基射频集成电路和系统技术的*新进展。《硅基射频集成电路和系统》分为射频电路和系统设计基础知识、射频收发机集成电路技术和面向特定应用的射频集成电路与系统技术三个部分。**部分主要包括射频电路和系统基础与高频器件及模型;第二部分主要包括射频收发通道和频率综合器的关键电路技术;第三部分面向低功耗物联网、可重构射频系统和毫米波雷达等应用介绍相关射频集成电路与系统技术。
《电子工厂化学品系统工程技术规范·中华人民共和国国家标准·GB50781-2012》是根据原建设部《关于印发 2007 的通知(第二批)》建标[2007]126号文的要求,由信息产业电子第十一设计研究院科技工程股份有限公司会同有关单位共同编制完成。 《电子工厂化学品系统工程技术规范·中华人民共和国国家标准·GB50781-2012》在编制过程中,根据我国集成电路工厂、平板显示器件工厂和太阳能电池工厂的设计、建造和运行的实际情况,同时考虑工厂目前的现状,对国外工程公司也进行了调查研究,广泛征求了全国有关单位与个人意见,并反复修改,后经审查定稿。 《电子工厂化学品系统工程技术规范·中华人民共和国国家标准·GB50781-2012》共分7章,主要内容有:总则,术语、缩略语,化学品供应系统,化学品回收系统,化学品监控及安全系统,相关专业设计,
本书将全新的穿越方程和高频电磁场结构仿真软件(HFSS)相结合,对各类微波铁氧体器件进行了仿真设计。列举了各种结构的环行器、隔离器的设计范例,探索了获得高性能、高稳定性和高可靠性的设计途径,对其非互易性应用穿越方程进行了深入探讨;对各类变场器件如移相器、开关进行了仿真设计,应用穿越方程对其非互易相移、开关相移(或差相移)和磁化相移进行计算,提供了有效设计数据;对幅/相可控类器件如变极化器和全极化器介绍了多种实施方案,给出了仿真设计结果,理论上对法拉第旋转和变极化机制进行了探讨,用穿越方程计算了双模器件的变极化系数。在设计层面上具有一定的创新性;从旋磁理论层面上,给出了各类器件各种形式的三维电磁场穿越方程,弥补了经典旋磁器件理论中**方程的局限性。
本书系统介绍了低功耗 CMOS 逐次逼近型模数转换器设计所涉及的一些关键问题,包括体系结构、高层次模型、电容开关时序、关键电路技术、低压模拟电路、电容阵列布局等,同时介绍当前最新的流水线 SAR A/D 转换设计技术和可配置 A/D 转换器设计技术,是当前国外低功耗 CMOS 混合信号集成电路的前沿研究内容。书中所提出的体系结构、电容开关时序及高层次模型、关键电路模块均经过流片验证或 Spice 仿真验证,可以直接供读者参考,且对想深入研究低功耗 CMOS 混合信号集成电路设计的设计人员和研究人员具有很强的指导意义和实用性。
本书由Veena S. Chakravarthi博士倾力撰写,是超大规模集成电路设计领域入门者的综合指南。本书紧密结合行业前沿动态,系统梳理了SoC设计的全流程,涵盖从基础概念到复杂芯片开发的各个环节。书中不仅详细介绍了SoC的定义、组成、设计策略和开发周期,还深入介绍了逻辑设计、硬件描述语言、综合与静态时序分析、可测试性设计、设计验证、物理设计与验证及封装等各个环节,涵盖了SoC设计所需的全部关键步骤,内容丰富且系统。本书以实例设计为主,丰富的设计案例和参考实例可帮助读者更好地理解和应用所学知识。 本书适合电子、电气、计算机科学等相关专业的学生,以及VLSI设计领域的初学者和从业者,可帮助他们掌握必 备技能,应对行业挑战。
本书是 十三五 江苏省高等学校重点教材。内容从通俗性和实用性出发,全面介绍微电子科学与工程专业所需学习的各项基本理论和知识。全书共6章,主要包括:微电子学基础(概论)、半导体物理基础、半导体器件物理基础、半导体集成电路制造工艺、集成电路基础、新型微电子技术。并配套电子课件、习题参考答案等。本书可作为高等学校微电子科学与工程专业 微电子导论 课程的基础教材,也可供相关领域的工程技术人员学习和参考。
本书从数字集成电路测试与可测性设计的基本概念出发,系统介绍了数字集成电路测试的概念、原理及方法。主要内容包括:数字集成电路测试基础、测试向量生成、可测性设计与扫描测试、边界扫描测试、内建自测试、存储器测试,以及可测性设计案例及分析。本书将理论与实践相融合,深入浅出地进行理论讲解,并辅以实例解析,帮助读者从入门级别的理解到信手拈来的精通,实现从理论知识到工程应用的有效过渡。本书可作为高等院校集成电路设计与集成系统等专业的教材,也可供集成电路及相关行业的工程技术人员参考。
集成电路版图是设计与集成电路工艺之间必不可少的环节。本书从半导体器件的理论基础入手,在讲授集成电路制造工艺的基础上,循序渐进地介绍了集成电路版图设计的基本原理与方法。 以介绍集成电路版图设计为主的本书,主要内容包括半导体器件和集成电路工艺的基本知识,集成电路常用器件的版图设计方法,流行版图设计软件的使用方法,版图验证的流程以及集成电路版图实例等。 《集成电路版图设计(第2版)》适合作为高等院校微电子技术专业和集成电路设计专业版图设计课程的教材,也可作为集成电路版图设计者的参考书。
《电路板机械加工技术与应用》是 PCB先进制造技术 丛书之一。《电路板机械加工技术与应用》从实际应用出发,讲解电路板制造中的机械加工技术与工艺,提出相关的技术应用理念与想法,提供一些经验和参考数据,以期引导从业者应对变化、提高制造技术。 《电路板机械加工技术与应用》共7章,内容涉及电路板的开料、压合、机械钻孔、激光加工、研磨与磨刷、成形与外形处理。
《纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计》的内容包括:CMOSVLSI电路设计的技术趋势;半导体制造技术;光刻技术;工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模;面向可制造性的物理设计技术;测量、制造缺陷和缺陷提取;缺陷影响的建模和合格率提高技术;物
本书的重要特点是以与现代集成微电子学相关的方式介绍半导体器件操作的基本原理,不涉及任何光学或者功率器件,重点强调集成微电子器件的频率响应、布局、集合效应、寄生问题以及建模等。本书分为两部分,合计11章。*部分(第1章至第5章)介绍半导体物理的基本原理,包括电子和光子及声子、平衡状态下的载流子统计学、载流子产生与复合、载流子漂移和扩散、载流子运动以及PN结二极管,涵盖能带结构、电子统计、载流子产生与复合、漂移和扩散、多数载流子和少数载流子等相关知识。第二部分(第6章至第11章)分别讲解肖特基二极管与欧姆接触、硅表面与金属氧化物半导体结构、长金属氧化物半导体场效应晶体管、短金属氧化物半导体场效应晶体管以及双极结晶体管,详细探讨各种器件的物理及操作原理。各章涵盖了不理想性、二阶效应以及其他与实
本书首先详细介绍了与压电结构健康监测(StructuralHealthMonitoring,SHM)有关的基础理论知识,内容覆盖结构断裂及失效的基础知识、有关的压电材料的及其性质、不同结构中的振动模式以及SHM中不同条件下的不同波的类型和其应用于实际结构中存在的挑战,介绍了压电主动式传感器(PiezoelectricWaferActiveSensors,PWAS)的相关内容,包括其基本原理及应用,介绍了如何理解传感器信号模式,如不同的波形,包括分析方法(快速傅里叶变换、短时傅里叶变换和小波变换),接下来,本书从理论过渡到实际,给出了利用PWAS来检测和量化结构中的损伤的综合应用。
《硅集成电路工艺基础(第2版21世纪微电子学专业规划教材普通高等教育十五*规划教材)》系统地讲述了硅集成电路制造的基础工艺,重点放在工艺物理基础和基本原理上。全书共十一章,其中章简单地讲述了硅的晶体结构和非晶体结构及其特点,第二章到第九章分别讲述了硅集成电路制造中的基本单项工艺,包括氧化、扩散、离子注入、物理气相淀积、化学气相淀积、外延、光刻与刻蚀、金属化与多层互连,后两章分别讲述的是工艺集成和薄膜晶体管的制装工艺。 《硅集成电路工艺基础(第2版21世纪微电子学专业规划教材普通高等教育十五*规划教材)》可作为高等学校微电子专业本科生和研究生的教材或参考书,也可供从事集成电路制造的工艺技术人员阅读。