本书对自由电子激光的基本理论、物理机理、相关技术与实验,以及发 展前沿进行了系统介绍与论述。主要内容有:自由电子激光的特点、运行原 理与基本概念;自由电子激光的基本方程理论描述;自由电子激光中的重要 物理效应;自由电子激光实验装置相关技术介绍;自由电子激光基本运行模 式以及研究发展前沿。本书力图使读者能对自由电子激光全貌有一概要了解, 掌握重要的基本概念和物理图像。
本书是一部国际公认的经典教材,主要面向半导体装置、磁性材料、激光、和金属合金等领域的读者。初版于1985年,这是第4版。该书在固态物理理论基础上详细讨论了材料的电学、光学、磁学和热力学性质。内容深入浅出,从简单的物理模型开始,逐步过渡到材料电子特性的测定与应用实例。本版在第3版基础上,内容全面做了修订,增加了上述领域的*突破性进展。书中每章末有习题,书后附有习题解答。读者对象:固体物理、材料科学和器件物理等领域的研究生、科研人员及工程技术人员。
本书对自由电子激光的基本理论、物理机理、相关技术与实验,以及发展前沿进行了系统介绍与论述。主要内容有:自由电子激光的特点、运行原理与基本概念;自由电子激光的基本方程理论描述;自由电子激光中的重要物理效应;自由电子激光实验装置相关技术介绍;自由电子激光基本运行模式以及研究发展前沿。本书力图使读者能对自由电子激光全貌有一概要了解,掌握重要的基本概念和物理图像。
《自旋电子学》由十余位对自旋电子学前沿有研究经验的学者撰写,共10 章. 较深入地论述了自旋电子学的主要内容、形成与展望,兼顾理论、实验和应用. 包括,多层膜与颗粒体系的磁性和巨磁电阻; 磁性隧道结, 特别是发展的MgO 单晶隧道结的结构、理论和应用; 庞磁电阻材料的理论、实验与应用; 稀磁半导体的磁性、磁输运等以及相关的异质结构和自旋注入等研究; 磁电阻理论, 包括铁磁金属的散射理论、界面效应和介观体系中的磁电电路理论; 铁磁/反铁磁界面的交换偏置在器件中的作用和基本性能, 主要的实验研究和理论模型; 自旋动量矩转移效应、电流引起磁化的原理和在自旋阀、隧道结、铁磁体-量子点耦合等系统中的研究, 自旋动量矩转移引起的磁畴转动、畴壁位移、自旋波激发、自旋泵浦、自旋流等的原理和应用, 电流引起磁化与传统的磁场引起磁化的比较;
本书主要讲述激光物理学领域的各种现象和器件的基本原理。全书共分18章,阐述了适用于光通信和电子学的物理基础和工作原理,包括光学共振腔、各种激光器、波导、光纤、光栅和光子晶体;涵盖了光网络中光的传输、调制、放大和检测,以及光纤中的光学非线性效应等。本书中采用了电磁场理论、麦克斯韦方程组和电磁波传输方法,同时在每章中都附有大量习题和生动实例。
本手册上篇对化学试剂的基本知识,试剂规格和标准,国内外试剂生产厂家,试剂的包装、贮藏和运输作了简要叙述,着重介绍了600余种常用化学试剂的性状。下篇则以较大篇幅列出11OO余种化学试剂和制剂(如催化剂、试纸、气体等),择要介绍其用于分析某物的配制方法、反应现象、应用范围、配制中应注意的事项和简单原理,另外还介绍了240种指示剂、260标准溶液及缓冲溶液的配制方法,并编制了详细的综合索引、被检物索引和化学试剂英文索引,便于查阅。下篇还收集了480余种人名试剂的配制方法及其用途。这是本手册的一大特色。 本书讲究实用,适合于化验室、实验室工作人员,化工、制药等行业的工人和技术人员,农业技术人员和学校师生阅读、参考。
\"本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面,在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。 本书共分为六章,其中, 章为绪论,介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型,以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台,除此之外,还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术,列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电
本书全面深入地介绍等离子体物理和化学的基本原理,以及工业等离子体材料处理的原理,并应用基本理论分析各种常见等离子体源的放电状态。书中还介绍半导体材料的刻蚀、薄膜沉积,离子注入等低温等离子体在材料处理方面的应用,反映本领域的*研究进展。全书共18章,内容包括等离子体的基础知识、等离子体放电过程中的粒子平衡和能量平衡、容性和感性放电、波加热的气体放电、直流放电、刻蚀、沉积与注入、尘埃等离子体,以及气体放电的动理论等。 本书可供等离子体物理领域的研究生、技术人员,以及微纳电子领域的科技研发人员参考学习。
本书是一部国际公认的经典教材,主要面向半导体装置、磁性材料、激光、和金属合金等领域的读者。初版于1985年,这是第4版。该书在固态物理理论基础上详细讨论了材料的电学、光学、磁学和热力学性质。内容深入浅出,从简单的物理模型开始,逐步过渡到材料电子特性的测定与应用实例。本版在第3版基础上,内容全面做了修订,增加了上述领域的近期新突破性进展。书中每章末有习题,书后附有习题解答。读者对象:固体物理、材料科学和器件物理等领域的研究生、科研人员及工程技术人员。
原子吸收光光谱分析和原子荧光光谱分析已广泛地应用于各行各业的微量分析和痕量分析。本书是2003年出版的《应用原子吸收和原子荧光光谱分析》的修订版。在扼要地介绍原子吸收光光谱分析和原子荧光光谱分析原理的基础上,全面地介绍了原子吸收和原子荧光光谱分析的仪器、分析技术、干扰及其消除方法、联用技术、分析测试数据的处理方法等,重点介绍了这两种分析技术在地质、冶金、石油化工、轻工、农林、生物、医药、食品、保健品、环境、电子电器各个领域中的应用。对我国科技工作者在原子吸收和原子荧光分析基础研究、分析方法开发、仪器制造、实际应用等各方面的成就亦做了适当的介绍。 本书理论与实际紧密结合,内容丰富,实用性强。文字表述流畅,可读性好。本书可供在工厂、研究所、检验检疫、环境监测等部门实验室从事分析化验
\"本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面,在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。 本书共分为六章,其中, 章为绪论,介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型,以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台,除此之外,还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术,列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电
本书立足于使用,着重介绍应用同位素质谱技术的研究方向和实验;包括:同位素质谱仪器、同位素质谱技术的主要内容和实验方法等;同时也阐述了同位素质谱的主要应用,并对近期国内外同位素质谱的主要文献进行了整理和参考;力求给从事同位素质谱工作的提供相关同位素质谱技术的基础知识和实验技巧。
本书主要阐述真空电子学太赫兹源基本原理及相关技术,内容分为两部分共九章:第一部分是第1章至第7章,主要阐述太赫兹史密斯-珀塞尔辐射源、超短电子束团的太赫兹辐射源、行波管、返波管、扩展互作用速调管、回旋