本书为引进译著。作者全面梳理并总结了其团队在光学制造方面的研究结果。全书包括两大部分：第Ⅰ部分基本相互作用 材料科学，从摩擦学、流体动力学、固体力学、断裂力学、电化学等光学制造的基础理论出发，系统分析了从宏观到微观的材料去除过程，定量描述了光学制造中不同工艺参数与光学元件性能之间的关系。第Ⅱ部分应用 材料技术，详细叙述了工程应用的光学制造，汇总了现代光学制造中缺陷的检测和评价方法，剖析了多方面工艺优化的可行性，说明了各类新的抛光技术；针对高能激光系统要求的高损伤阈值光学元件，书末还给出了高能激光元件制作的关键工艺实例。 本书既是光学制造理论的梳理，也是现代光学制造技术与应用的汇总，涵盖了从光学制造工艺到光学元件性能评价等多方面的理论与实践，是一部兼具理论、方法和实际应用价值的

本书是一本有关微波光子学原理与应用的专著。在书中作者结合自己在美国海军研究实验室（U.S. Naval Research Laboratory）从事模拟微波光子链路的研究实践，从模拟微波光子链路的原理与应用这一视角介绍了微波光子学的基本原理，并综述和展望了模拟微波光子链路的应用及其未来的发展趋势。全书共分为十章，内容涵盖微波光子学的基本概念；射频系统与光子学系统的性能参数；基于不同调制方式的模拟微波光子链路的理论模型和其中有关信号传输的关键问题，包括链路中的噪声、畸变和非线性效应等；以及模拟微波光子链路的应用。

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科尼利厄斯·J·威勒斯编著的《光电系统分析与设计》总结了作者在多年的辐射度学实践（设计、测量、建模和光电系统仿真）中积累的经验，对光电系统分析与设计的基本流程及其所涉及的辐射度学理论和技术问题进行了全面系统的阐述。全书贯穿着采用系统工程思维来分析和设计由多个组件构成的复杂光电系统的思想，使读者从组件级的视角转向综合系统的视角，进而能更好地应用辐射度学来分析和设计用于各种不同场景的光电系统。