本书主要阐述真空电子学太赫兹源基本原理及相关技术，内容分为两部分共九章：第一部分是第1章至第7章，主要阐述太赫兹史密斯-珀塞尔辐射源、超短电子束团的太赫兹辐射源、行波管、返波管、扩展互作用速调管、回旋管的基本原理，以及新型太赫兹辐射源的方法和相关研制成果、实验等，在此基础上，阐述了太赫兹源的基本应用。第二部分是第8章和第9章太赫兹真空电子器件相关技术，主要是阴极技术和微纳加工技术，分别介绍太赫兹阴极高发射机理及太赫兹微纳结构制备方法。
![分析化学手册 [美]迪安 著；常文保 译 9787030103918 科学出版社【可开电子发票】](http://img3m8.ddimg.cn/66/23/11970748218-1_l.jpg)
分子界面化学是唯象界面化学的发展方向，本书是在以分子问相互作用理论为基础，对界面现象作长期研究的基础上撰写而成的具有自己特色的分子界面化学理论的专著。 全书共八章，前四章为讨论分子界面化学的理论基础；后四章是分子界面化学理论对一些界面现象的应用。在理论基础方面着重介绍了物理界面在界面现象中所起的作用，提出了物理界面界面层模型，表面力等概念，讨论了物理界面界面层模型界面热力学与传统的界面热力学的异同之处。并应用统计力学讨论了Stefen公式、表面力、系统压力结构等内容。在这些界面现象理论基础中引入了分子理论，着重介绍了诱导力的计算，以此讨论了纯物质、溶液表面力与分子间相互作用力之间的关系。在界面现象方面讨论了润湿理论、表面相平衡理论和溶液表面现象理论；并在统计分析分布结构的气体压力
