本书主要阐述真空电子学太赫兹源基本原理及相关技术,内容分为两部分共九章:第一部分是第1章至第7章,主要阐述太赫兹史密斯-珀塞尔辐射源、超短电子束团的太赫兹辐射源、行波管、返波管、扩展互作用速调管、回旋
\"本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面,在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。 本书共分为六章,其中, 章为绪论,介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型,以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台,除此之外,还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术,列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电
本书立足于使用,着重介绍应用同位素质谱技术的研究方向和实验;包括:同位素质谱仪器、同位素质谱技术的主要内容和实验方法等;同时也阐述了同位素质谱的主要应用,并对近期国内外同位素质谱的主要文献进行了整理和参考;力求给从事同位素质谱工作的提供相关同位素质谱技术的基础知识和实验技巧。
手性是自然界的本质属性,随着生物工程和生命科学的发展,手性分离越来越引起人们的普遍关注,液相色谱是目前手性分离最为有效的方法。本书系统论述了手性与生物活性,手性分离方法,对映异构体,液相色谱基础,手性色谱拆分机理,手性配体交换色谱,对映体的制备分离,模拟移动床色谱手性分离以及在化学剂、药物和农药对映体分离中的应用,刷型、纤维素类、淀粉类、环糊精、大环抗生素手性固定相,并介绍了作者的研究成果和国内外的最新进展。 本书可供化学、化工、药物、环保和食品分析等专业科研人员及相关专业的教师、研究生、本科生参考。
本书主要阐述真空电子学太赫兹源基本原理及相关技术,内容分为两部分共九章:第一部分是第1章至第7章,主要阐述太赫兹史密斯-珀塞尔辐射源、超短电子束团的太赫兹辐射源、行波管、返波管、扩展互作用速调管、回旋
翟宏如等编著的《自旋电子学(典藏版)》共10章。较深入地论述了自旋电子学的主要内容、形成与展望,兼顾理论、实验和应用。包括,多层膜与颗粒体系的磁性和巨磁电阻;磁性隧道结,特别是 发展的MgO单晶隧道结的结构、理论和应用;庞磁电阻材料的理论、实验与应用;稀磁半导体的磁性、磁输运等以及相关的异质结构和自旋注入等研究;磁电阻理论,包括铁磁金属的散射理论、界面效应和介观体系中的磁电电路理论;铁磁/反铁磁界面的交换偏置在器件中的作用和基本性能,主要的实验研究和理论模型;自旋动量矩转移效应、电流引起磁化的原理和在自旋阀、隧道结、铁磁体一量子点耦合等系统中的研究,自旋动量矩转移引起的磁畴转动、畴壁位移、自旋波激发、自旋泵浦、自旋流等的原理和应用,电流引起磁化与传统的磁场引起磁化的比较;自旋电子
本书由十余位国内对自旋电子学前沿有研究经验的著名学者撰写,共10章。较深入地论述了自旋电子学的主要内容、形成与展望,兼顾理论、实验和应用。包括,多层膜与颗粒体系的磁性和巨磁电阻;磁性隧道结,特别是最新发展的MgO单晶隧道结的结构、理论和应用;庞磁电阻材料的理论、实验与应用;稀磁半导体的磁性、磁输运等以及相关的异质结构和自旋注入等研究;磁电阻理论,包括铁磁金属的散射理论、界面效应和介观体系中的磁电电路理论;铁磁/反铁磁界面的交换偏置在器件中的作用和基本性能,主要的实验研究和理论模型;自旋动量矩转移效应、电流引起磁化的原理和在自旋阅、隧道结、铁磁体-量子点耦合等系统中的研究,自旋动量矩转移引起的磁畴转动、畴壁位移、自旋波激发、自旋泵浦、自旋流等的原理和应用,电流引起磁化与传统的磁场引起磁
本书主要阐述真空电子学太赫兹源基本原理及相关技术,内容分为两部分共九章:第一部分是第1章至第7章,主要阐述太赫兹史密斯-珀塞尔辐射源、超短电子束团的太赫兹辐射源、行波管、返波管、扩展互作用速调管、回旋
\"本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面,在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。 本书共分为六章,其中, 章为绪论,介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型,以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台,除此之外,还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术,列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电