本书共19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性,DFM(Design for Manufacturing),集成电路检测与分析、集成电路的可靠性,生产控制,良率提升,芯片测试与芯片封装等内容。 再版时加强了半导体器件方面的内容,增加了先进的FinFET、3D NAND存储器、CMOS图像传感器以及无结场效应晶体管器件与工艺等内容。
《数字集成电路测试 理论、方法与实践》全面介绍数字集成电路测试的基础理论、方法与EDA实践。第1章为数字集成电路测试技术导论,第2~9章依次介绍故障模拟、测试生成、可测试性设计、逻辑内建自测试、测试压缩、存储器自测试与自修复、系统测试和SoC测试、逻辑诊断与良率分析等基础测试技术,第10章扩展介绍在汽车电子领域发展的测试技术,第11章对数字电路测试的技术趋势进行展望。 针对每一种数字集成电路测试技术,本书一方面用示例讲述其技术原理,另一方面用电子设计自动化(EDA)的商业工具对具体实例演示技术应用过程(EDA工具应用脚本及其说明可在配套资源中下载),并在每章后附有习题。通过本书,读者一方面可以学习到基本的测试理论和相关技术;另一方面,还可以对当今芯片设计流程和EDA工具链中测试技术的运用和实践有所了解。 《
本书以ADS 2023为平台,介绍了射频电路的设计与仿真。主要内容包括初识ADS 2023、原理图设计基础、原理图的绘制、元器件库设计、原理图的后续处理、仿真电路设计、仿真结果显示、微波网络法仿真分析、布局图设计视图、电路板设计、电路板的后期制作、微带线设计和EM仿真分析。全书内容循序渐进,案例丰富实用,讲解通俗易懂,实例操作部分配套视频教学,扫码学习,方便快捷。同时,随书附赠全书实例素材、源文件,便于读者上手实践。本书适合从事电路设计的电子、通信领域的工程师自学使用,也可用作高等院校相关专业的教材及参考书。
本书主要介绍基于国产微波射频电路全流程设计平台AetherMW进行微波射频电路设计与仿真的方法。本书将基本概念、模块设计与系统设计相结合,内容涉及微波射频系统概述、阻抗匹配电路设计、功率分配器设计、定向耦合器设计、射频滤波器设计、射频放大器设计、混频器设计、雷达射频前端设计与仿真、常用测量仪器及AetherMW等。书中各模块设计均从实际的工程技术指标入手,按照"理论分析—模块分割—指标参数计算—电路仿真与实现”的过程开展,重点关注通用微波射频电路的理论知识及设计方法,力图达到概念清晰、思路流畅、方法多样、过程明了、理论联系实际的效果,满足微波射频工程领域不同层次的读者的需求。
本书是一本通用的集成电路封装与测试技术教材,全书共10章,内容包括:绪论、封装工艺流程、气密性封装与非气密性封装、典型封装技术、几种先进封装技术、封装性能的表征、封装缺陷与失效、缺陷与失效的分析技术、质量鉴定和保证、集成电路封装的趋势和挑战。其中,1~5章介绍集成电路相关的流程技术,6~9章介绍集成电路质量保证体系和测试技术,第10章介绍集成电路封装技术发展的趋势和挑战。 本书力求在体系上合理、完整,由浅入深介绍集成电路封装的各个领域,在内容上接近于实际生产技术。读者通过本书可以认识集成电路封装行业,了解封装技术和工艺流程,并能理解集成电路封装质量保证体系、了解封装测试技术和重要性。 本书可作为高校相关专业教学用书和微电子技术相关企业员工培训教材,也可供工程人员参考。 本书配有授课电子课件,
本书系统介绍了低功耗 CMOS 逐次逼近型模数转换器设计所涉及的一些关键问题,包括体系结构、高层次模型、电容开关时序、关键电路技术、低压模拟电路、电容阵列布局等,同时介绍当前最新的流水线 SAR A/D 转换设计技术和可配置 A/D 转换器设计技术,是当前国外低功耗 CMOS 混合信号集成电路的前沿研究内容。书中所提出的体系结构、电容开关时序及高层次模型、关键电路模块均经过流片验证或 Spice 仿真验证,可以直接供读者参考,且对想深入研究低功耗 CMOS 混合信号集成电路设计的设计人员和研究人员具有很强的指导意义和实用性。
本书是 十三五 江苏省高等学校重点教材。内容从通俗性和实用性出发,全面介绍微电子科学与工程专业所需学习的各项基本理论和知识。全书共6章,主要包括:微电子学基础(概论)、半导体物理基础、半导体器件物理基础、半导体集成电路制造工艺、集成电路基础、新型微电子技术。并配套电子课件、习题参考答案等。本书可作为高等学校微电子科学与工程专业 微电子导论 课程的基础教材,也可供相关领域的工程技术人员学习和参考。
本书从数字集成电路测试与可测性设计的基本概念出发,系统介绍了数字集成电路测试的概念、原理及方法。主要内容包括:数字集成电路测试基础、测试向量生成、可测性设计与扫描测试、边界扫描测试、内建自测试、存储器测试,以及可测性设计案例及分析。本书将理论与实践相融合,深入浅出地进行理论讲解,并辅以实例解析,帮助读者从入门级别的理解到信手拈来的精通,实现从理论知识到工程应用的有效过渡。本书可作为高等院校集成电路设计与集成系统等专业的教材,也可供集成电路及相关行业的工程技术人员参考。
集成电路版图是设计与集成电路工艺之间必不可少的环节。本书从半导体器件的理论基础入手,在讲授集成电路制造工艺的基础上,循序渐进地介绍了集成电路版图设计的基本原理与方法。 以介绍集成电路版图设计为主的本书,主要内容包括半导体器件和集成电路工艺的基本知识,集成电路常用器件的版图设计方法,流行版图设计软件的使用方法,版图验证的流程以及集成电路版图实例等。 《集成电路版图设计(第2版)》适合作为高等院校微电子技术专业和集成电路设计专业版图设计课程的教材,也可作为集成电路版图设计者的参考书。
《纳米级CMOS超大规模集成电路可制造性设计》的内容包括:CMOSVLSI电路设计的技术趋势;半导体制造技术;光刻技术;工艺和器件的扰动和缺陷分析与建模;面向可制造性的物理设计技术;测量、制造缺陷和缺陷提取;缺陷影响的建模和合格率提高技术;物
《电路板机械加工技术与应用》是 PCB先进制造技术 丛书之一。《电路板机械加工技术与应用》从实际应用出发,讲解电路板制造中的机械加工技术与工艺,提出相关的技术应用理念与想法,提供一些经验和参考数据,以期引导从业者应对变化、提高制造技术。 《电路板机械加工技术与应用》共7章,内容涉及电路板的开料、压合、机械钻孔、激光加工、研磨与磨刷、成形与外形处理。
《硅集成电路工艺基础(第2版21世纪微电子学专业规划教材普通高等教育十五*规划教材)》系统地讲述了硅集成电路制造的基础工艺,重点放在工艺物理基础和基本原理上。全书共十一章,其中章简单地讲述了硅的晶体结构和非晶体结构及其特点,第二章到第九章分别讲述了硅集成电路制造中的基本单项工艺,包括氧化、扩散、离子注入、物理气相淀积、化学气相淀积、外延、光刻与刻蚀、金属化与多层互连,后两章分别讲述的是工艺集成和薄膜晶体管的制装工艺。 《硅集成电路工艺基础(第2版21世纪微电子学专业规划教材普通高等教育十五*规划教材)》可作为高等学校微电子专业本科生和研究生的教材或参考书,也可供从事集成电路制造的工艺技术人员阅读。
本书的重要特点是以与现代集成微电子学相关的方式介绍半导体器件操作的基本原理,不涉及任何光学或者功率器件,重点强调集成微电子器件的频率响应、布局、集合效应、寄生问题以及建模等。本书分为两部分,合计11章。*部分(第1章至第5章)介绍半导体物理的基本原理,包括电子和光子及声子、平衡状态下的载流子统计学、载流子产生与复合、载流子漂移和扩散、载流子运动以及PN结二极管,涵盖能带结构、电子统计、载流子产生与复合、漂移和扩散、多数载流子和少数载流子等相关知识。第二部分(第6章至第11章)分别讲解肖特基二极管与欧姆接触、硅表面与金属氧化物半导体结构、长金属氧化物半导体场效应晶体管、短金属氧化物半导体场效应晶体管以及双极结晶体管,详细探讨各种器件的物理及操作原理。各章涵盖了不理想性、二阶效应以及其他与实
本书主要介绍模拟集成电路的分析和设计,每章均配有基于华大九天Empyrean Aether 的实例,注重理论基础和实践的结合。全书共13 章,前6 章从半导体物理和器件物理的基础开始,逐步讲解并分析模拟集成电路中的各种基本模块;第7 章介绍带隙基准电路;第8~10 章主要讨论模拟电路的噪声、反馈和稳定性、运算放大器等内容;第11~13 章针对常用的复杂模拟集成电路展开讨论,主要括开关电容放大器、模数转换器与数模转换器、锁相环等。本书点如下:(1)本书是国内第一本基于国产EDA工具讲授模拟IC设计的理论和实践教材,对书中的案例配以详细的实践案例;(2)本书从基础理论出发,系统全面讲解了模拟IC设计的全内容,并配以详尽的原理阐释、公式推导和案例分析;(3)本书内容体系完备,不仅可用于本科生模拟IC设计的入门教材,也可用于研究生段进一步
本书将全新的穿越方程和高频电磁场结构仿真软件(HFSS)相结合,对各类微波铁氧体器件进行了仿真设计。列举了各种结构的环行器、隔离器的设计范例,探索了获得高性能、高稳定性和高可靠性的设计途径,对其非互易性应用穿越方程进行了深入探讨;对各类变场器件如移相器、开关进行了仿真设计,应用穿越方程对其非互易相移、开关相移(或差相移)和磁化相移进行计算,提供了有效设计数据;对幅/相可控类器件如变极化器和全极化器介绍了多种实施方案,给出了仿真设计结果,理论上对法拉第旋转和变极化机制进行了探讨,用穿越方程计算了双模器件的变极化系数。在设计层面上具有一定的创新性;从旋磁理论层面上,给出了各类器件各种形式的三维电磁场穿越方程,弥补了经典旋磁器件理论中**方程的局限性。
本书内容涵盖集成电路制造工艺及模拟仿真知识。详细介绍了集成电路的发展史及产业发展趋势、集成电路制造工艺流程及模拟仿真基础、集成电路制造的材料及相关环境、晶圆的制备与加工;具体讲解了氧化、淀积、金属化、光刻、刻蚀、离子注入、平坦化等关键工艺步骤的理论,对氧化、光刻、离子注入等步骤进行工艺模拟仿真,对关键的光刻工艺进行虚拟操作模拟;以NMOS器件为例,介绍了基本CMOS工艺流程及其模拟过程。本书理论和实践相结合,不仅讲解了集成电路制造工艺及其理论知识,还通过工艺模拟软件及虚拟操作模拟,使读者亲身感受关键的工艺步骤。 本书可作为集成电路设计与集成系统、微电子科学与工程等专业的教材,也可供半导体行业从事芯片制造与加工的工程技术人员学习参考。
传统的射频接收机面临带宽受限、频率可调性差、隔离度差、电磁干扰严重等电子瓶颈,逐渐难以满足未来电子系统发展的需要。微波光子技术具有大带宽、宽频段、可调谐、高隔离度、无电磁干扰等显著优势,可有效克服电子瓶颈限制,满足未来雷达、无线通信、电子侦察与对抗等领域的发展需求,而基于微波光子的信道化接收技术是实现超宽带射频信号瞬时完整接收的使能技术。本书内容主要分为两部分,前半部分主要介绍了目前微波光子信道化接收技术存在的一些技术难题,后半部分针对上述技术难题展开研究,设计并验证了三种基于不同原理的信道化接收方案。 本书可供信息与通信工程专业研究生参考使用,或作为微波光子领域从业人员的参考资料。