这是一本半导体科普书,介绍了半导体的相关知识。在开始学习之前,通过序章,首先介绍半导体有什么了不起之处、半导体的类型和作用、半导体是如何制造的,以及半导体发挥作用的领域。之后通过5章具体的内容,阐述半导体是什么,晶体管是如何制造的,用于计算的半导体,用于存储的半导体,光电、无线和功率半导体等。此外,本书在每章最后配有 半导体之窗 ,补充了一部分相关知识。 本书适合对半导体感兴趣的初学者阅读,对于学生也有很高的科普阅读价值。
在半导体芯片被广泛关注的当下,本书旨在为广大读者提供一本通俗易懂和全面了解半导体芯片原理、设计、制造工艺的学习参考书。 《极简图解半导体技术基本原理(原书第3版)》以图解的形式,简单明了地介绍了什么是半导体以及半导体的物理特性,什么是IC、ISI以及其类型、工作原理和应用领域。在此基础上详细介绍了ISI的开发与设计、ISI制造的前端工程、ISI制造的后端工程以使读者全面了解集成电路芯片的设计技术、制造工艺和测试、封装技术。最后,介绍了代表性半导体元件以及半导体工艺的发展极限。 本书面向电子技术,特别是半导体技术领域的工程技术人员、大专院校的学生,作为专业技术学习资料,同时也可作为广大科技爱好者了解半导体技术的科普读物。通过本书的阅读,读者可以快速了解半导体集成电路芯片技术的全貌,同时在理论上对其
本书针对半导体激光器,强调其理论基础和理论的系统性。主要内容包括:光增益理论、光波导理论、谐振腔理论、半导体发光、速率方程分析和典型半导体激光器的理论。
本书是本着突出近代真空镀膜技术进步,注重系统性、强调实用性而编著的。全书共11章,内容包涵了真空镀膜中物理基础,各种蒸发源与溅射靶的设计、特点、使用要求,各种真空镀膜方法以及薄膜的测量与监控,真空镀膜工艺对环境的要求等。本书具有权威性、实用性和通用性。本书可作为从事真空镀膜技术的技术人员、真空专业的本科生、研究生教材使用,亦可供镀膜、表面改型等专业和真空行业技术人员参考。
本书将半导体技术60多年的发展史浓缩在有限的篇幅里,通过简明扼要的语言为我们讲述关于芯片的那些事儿。本书主要围绕 史前文明 电子管时代、 新石器时代 晶体管时代、 战国时代 中小规模集成电路时代、 大一统秦朝 大规模和超大规模集成电路时代、 大唐盛世 特大规模和巨大规模集成电路时代、 走进新时代 移动互联时代、 拥抱未来 半导体科技的展望,对半导体领域涉及的技术发展情况、关键的人和事件等进行了描述,对未来的产业发展进行了展望,为我们勾勒了一幅半导体技术也是人类社会发展的蓝图。不管你是芯片行业的从业人员,还是对芯片产业感兴趣的人,抑或是对科技、对历史感兴趣,本书都非常适合你闲暇之时拿来阅读,从中了解信息社会的发展情况与未来趋势,相信定会有所收获。
本书以简练易懂的文字和妙趣横生的图画-一对应,建立起一套具有整体性和全局性的概念,包括静电场、电荷、静磁场、磁性极化、电磁感应、位移电流、电磁波的基本概念,以及物理量的基本单位制和量纲体系。为了掌握电磁学的数学原理,本书浅显直观地介绍相关数学工具,如数学分析、偏微分、线积分、面积分、场论、向量分析等。 本书的每一章都附加了专栏和提示,介绍一些前沿科学方面的小知识,还对一些经典的概念加以解释,例如,磁场强度日和磁感应强度B(即磁通密度)的历史沿革做了清晰的解读(见7-4节),这个知识点有利于加深对磁场本质的理解,而且是一般电磁学书籍所忽略的内容。 电磁学是一门较难学习的课程,需要对电磁学的概念有深刻的理解,还要求熟练掌握一系列的数学工具。本书经过巧妙设计,适合初学者轻松入
零维纳米晶及其量子点是纳米材料研究的重要组成部分,也是纳米技术发展的重要基础。纳米晶及其量子点的可控制备[粒径可控、分布均一(即单分散)、性质稳定]是纳米材料制备的关键问题之一,因此发展新的制备方法及综合利用两种或多种不同方法的优势组合形成一种制备方法,对于纳米材料研究具有重要意义。 《硫族半导体纳米晶的液相化学法制备、自组装及其性能研究》介绍了制备零维硫族半导体纳米材料的不同方法,并对硫族纳米晶及其量子点的基本性能进行了相应测试与研究,构建了工艺与性能参数的关系,开展了其光电应用研究。这对硫族半导体材料,以及零维半导体纳米材料的制备、性能控制均具有一定的指导意义。 《硫族半导体纳米晶的液相化学法制备、自组装及其性能研究》可供应用型本科、开展相关研究的硕士研究生和
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这是一本手把手帮助音乐制作新手掌握Cubase的入门教程,全书基于新版本的Cubase 12编写。本书从软件版本的选择与安装讲起,带领你了解Cubase 12的功能、特性与软件界面,并熟悉各项功能的设置。了解Cubase的界面之后,你将从新建轨道开始,一步步学习如何录制音频、编辑音频、使用效果器、使用混音台、录制MIDI等操作。本书图文并茂,步骤准确细致,只要读者跟随书中的讲解进行操作,相信很快就能轻松掌握Cubase的用法。本书适合音乐制作爱好者阅读,也适合音乐培训学校作为教材使用。
《半导体的故事》是关于半导体科学技术发展的高级科普图书,重点描述了许多重要的半导体器件的诞生和发展过程的历史,截至2000年左右。《半导体的故事》不像标准教科书那样仅仅关注半导体物理与器件技术,而是把
布伦德尔、埃文斯、斯特劳瑟主编的这本《硅加工中的表征》是材料表征原版系列丛书之一。全书共分六章,内容包括:材料表征技术在硅外延生长中的应用;多晶硅导体;硅化物;铝和铜基导线;级钨基导体;阻隔性薄膜。本
随着电子产品向多功能、高密度、微型化方向发展,电子?联工艺发生了很大的变化,涉及焊料、PCB、元器件等组装材料面临更多的挑战,对?联工艺技术和可靠性提出了更高的要求,因此,迫切需要一本能系统阐述现代电子 联工艺并为后续产品实际组装提供指导的。 本书从PCB、元器件和焊接材料入手,系统讲解了现代电子?联工艺中常见的技术,包括软钎焊、压接、胶接、螺装、分板等工艺技术,对电子?联过程失效和可靠性进行了分析,并站在工艺管理的角度阐述了现代电子?联的工艺管理要求。
随着电子产品向多功能、高密度、微型化方向发展,电子?联工艺发生了很大的变化,涉及焊料、PCB、元器件等组装材料面临更多的挑战,对?联工艺技术和可靠性提出了更高的要求,因此,迫切需要一本能系统阐述现代电子 联工艺并为后续产品实际组装提供指导的图书。 本书从PCB、元器件和焊接材料入手,系统讲解了现代电子?联工艺中常见的技术,包括软钎焊、压接、胶接、螺装、分板等工艺技术,对电子?联过程失效和可靠性进行了分析,并站在工艺管理的角度阐述了现代电子?联的工艺管理要求。
本书全面阐述了半导体刻蚀加工及金属辅助化学刻蚀加工原理与工艺,详细讲述了硅折点纳米线、超高深径比纳米线、单纳米精度硅孔阵列三类典型微/纳米结构的刻蚀加工工艺,并对第三代半导体碳化硅的电场和金属辅助化学刻蚀复合加工、第三代半导体碳化硅高深宽比微槽的紫外光场和湿法刻蚀复合加工工艺进行了详细论述。
《化合物半导体加工中的表征(英文)》的主要内容包括: Preface to the Reissue of the Materials CharacterizatioSeries ix;Preface to Series x;Preface to the Reissue of Characterizatioof CompoundSemiconductor Processing ;Preface ii;Contributors xv等。