本书共19章,涵盖先进集成电路工艺的发展史,集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化,器件参数与工艺相关性,DFM(Design for Manufacturing),集成电路检测与分析、集成电路的可靠性,生产控制,良率提升,芯片测试与芯片封装等内容。 再版时加强了半导体器件方面的内容,增加了先进的FinFET、3D NAND存储器、CMOS图像传感器以及无结场效应晶体管器件与工艺等内容。
内容简介: 本书是模拟CMOS集成电路设计方面的经典教材,介绍模拟CMOS集成电路的分析与设计,着重讲解该技术的*进展和设计实例,从MOSFET器件的基本物理特性开始,逐章分析CMOS放大单元电路、差分放大器、频率响应、噪声、反馈放大器与稳定性、运算放大器、电压基准源与电流基源、离散时间系统、差分电路及反馈系统中的非线性、振荡器和锁相环等基础模拟电路的分析与设计。本书还介绍了集成电路的基本制造工艺、版图和封装设计的基本原则。本书自出版以来得到了国内外读者的好评和青睐,被许多国际知名大学选为教科书。同时,由于原著者在世界知名*公司的丰富研究经历,使本书也非常适合作为CMOS模拟集成电路设计或相关领域的研究人员和工程技术人员的参考书
全书以Cadence 17.4为平台,介绍讲述了电路的设计与仿真。全书共12章,内容包括Cadence基础入门、原理图库、原理图基础、原理图环境设置、元件操作、原理图的电气连接、原理图的后续处理、仿真电路、创建PCB封装库、印刷电路板设计、布局和布线。在介绍的过程中,作者根据自己多年的经验及学习的通常心理,及时给出总结和相关提示,帮助读者及时快捷地掌握所学知识。全书解说翔实,图文并茂,语言简洁,思路清晰。
《数字集成电路测试 理论、方法与实践》全面介绍数字集成电路测试的基础理论、方法与EDA实践。第1章为数字集成电路测试技术导论,第2~9章依次介绍故障模拟、测试生成、可测试性设计、逻辑内建自测试、测试压缩、存储器自测试与自修复、系统测试和SoC测试、逻辑诊断与良率分析等基础测试技术,第10章扩展介绍在汽车电子领域发展的测试技术,第11章对数字电路测试的技术趋势进行展望。 针对每一种数字集成电路测试技术,本书一方面用示例讲述其技术原理,另一方面用电子设计自动化(EDA)的商业工具对具体实例演示技术应用过程(EDA工具应用脚本及其说明可在配套资源中下载),并在每章后附有习题。通过本书,读者一方面可以学习到基本的测试理论和相关技术;另一方面,还可以对当今芯片设计流程和EDA工具链中测试技术的运用和实践有所了解。 《
集成电路是现代电子技术的核心,随着集成电路产业迅猛发展,对专业人才的需求正急剧上升。本书从集成电路制造的工艺、设备、厂务 3 个关键内容出发,融合了集成电路制造的理论基础和前沿实践技术,深入浅出地探讨了集成电路制造的全过程。通过大量工艺设备的使用案例分析、实验数据、设备操作标准程序和教学实践视频,帮助读者掌握实际操作。此外,在介绍当前主流制造技术的同时,还深入讲解了产业界量产设备的基本原理、动力需求和应用实践。 上海科技大学材料器件中心聚焦集成电路先进制造领域卓越工程师的人才培养任务,依托先进一流的设备资源、资深工程师团队,联合产业界专家,将集成电路先进制造理论与实践有机结合,精心打造本书,旨在为读者提供全面、深入且实用的学习资料。本书不仅适用于本科生、研究生,对从事集成电路
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺,内容直接取材于国际先进集成电路制造技术,为了保证先进性,特别侧重于 32nm 节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例,这些实例都是经过生产实际验证的,希望能对读者有所启发。
本书将理论与现实应用进行了有效的融合。作者将重点放在实际环境中以帮助学生获得实际的感悟,并提供一种作出正确合理设计决策的方法。本书文笔流畅,描述直接明快,易为读者所接受。本书是为面向运算放大器和模拟集成电路设计的课程所用,对实际工作的工程师也是一本综合性的参考书。
本书分上、中、下三册,全方位、多角度地介绍集成电路全产业链各个环节的相关知识。既综合了集成电路发展历程、应用技术、产业经济、未来趋势等内容,也详细讲解了集成电路设计、制造、生产线建设、封装测试、专用设备、专用材料等内容,还介绍了集成电路的新技术、新材料、新工艺以及前沿技术发展方向等具有前瞻性的新知识。
当前和今后一段时期将是我国集成电路和光电芯片技术发展的重要战略机遇期和攻坚期,加强自主集成电路和光电芯片技术的研发工作,布局和突破关键技术并拥有自主知识产权,实现集成电路产业的高质量发展是我国当前的重大战略需求。《中国集成电路与光电芯片 2035发展战略》面向 2035年探讨了国际集成电路与光电芯片前沿发展趋势和中国从芯片大国走向芯片强国的可持续发展策略,围绕上述相关方向开展研究和探讨,并为我国在未来集成电路和光电芯片发展中实现科技与产业自立自强,在国际上发挥更加重要作用提供战略性的参考和指导意见。
本书主要介绍微/纳机电系统(MEMS/NEMS)谐振器动力学设计理论、分析方法及应用技术。全书共9章,主要内容包括:MEMS/NEMS技术基础和MEMS/NEMS谐振器技术的发展历程与发展趋势;谐振器的工作原理、谐振结构设计理论及分析技术;谐振器件制备涉及的材料、微纳加工工艺及技术;谐振器中存在的丰富非线性现象和复杂动力学行为;微纳尺度下的能量耗散理论、阻尼特性、作用机制及测试方法;谐振器中应用的各种振动激励与检测原理及技术;通道式MEMS/NEMS谐振器检测原理、动力学设计与分析技术;微纳尺度下谐振器件的模态弱耦合作用机制、谐振器设计及传感技术;谐振器中存在的典型失效模式与失效机理,以及多种可靠性评估方法和测试技术。
本书基于作者十五年的学术成果与产业经验,聚焦不确定性量化研究及其在集成电路中的应用。全书分为基础篇、方法篇和应用篇,共7章。基础篇(第 一、二章)简要介绍了什么是不确定性、不确定性量化这一交叉学科的发展现状,以及不确定性建模和相关基础知识。方法篇(第3~5章)从不确定性量化的研究目标出发,系统梳理了参数不确定性、模型不确定性和逆向建模这3类不确定性量化常见问题及对应量化方法。应用篇(第6、7章)针对不确定性量化研究的多学科交叉特性,展示了其在集成电路的新材料研发和电子设计自动化中的应用实践与推广潜力。 本书面向从事不确定性量化理论研究与应用实现的读者群体,所用案例多取自作者过往的学术成果,所提供的伪代码与示例将有助于读者复现相关算法框架,从而掌握不确定性量化的主流方法。
本书从集成电路器件可靠性问题出发,具体阐述了辐射环境、辐射效应、软错误和仿真工具等背景知识,详细介绍了抗辐射加固设计(RHBD)技术以及在该技术中常用的相关组件,重点针对表决器、锁存器、主从触发器和静态随机访问存储器(SRAM)单元介绍了经典的和新颖的RHBD技术,扼要描述了相关实验并给出了容错性能和开销对比分析。本书共分为6章,分别为绪论、常用的抗辐射加固设计技术及组件、表决器的抗辐射加固设计技术、锁存器的抗辐射加固设计技术、主从触发器的抗辐射加固设计技术以及SRAM 单元的抗辐射加固设计技术。通过学习本书内容,读者可以强化对集成电路器件抗辐射加固设计技术的认知,了解该领域的当前最新研究成果和相关技术。
材料作为当今社会现代文明的重要支柱之一,在科技发展的今天发挥着越来越重要作用。材料科学与工程基础类课程是各高等院校材料专业的必修课和核心专业课。本书在材料科学与工程类课程基础上,结合当今材料专业的现状和材料人才的发展需求,以集成电路材料学科中的基础理论和工程工艺问题为主线,与相关学科和学科分支交叉,应用于集成电路材料设计、制备、成型、性能和工艺等关键问题的求解。本书主要介绍材料化学方面的基础知识,包括材料的组成、材料的结构、材料的性能、材料的制备与成型加工,以及集成电路衬底、工艺和封装三大类材料与制备工艺。
本书以Cadence Allegro SPB 17.2为基础,以具体的高速PCB为范例,详尽讲解了IBIS模型的建立、高速PCB的预布局、拓扑结构的提取、反射分析、串扰分析、时序分析、约束驱动布线、差分对设计、板级仿真、AMI生成器、仿真DDR4等信号完整性分析,以及集成直流电源分析、分析模型管理器、协同仿真、2.5D内插器封装的热分析、AMM和PDC的结合等电源完整性分析内容。
本书精选了多种类型的iPhone手 机维修参考电路原理图及元件分布参考图, 内容包括iPhone6、iPhone5S、iPhone5C、iPhone5、iPhone4S、iPhone4 的 维修参考电路与元件参考分布。 图集按iPhone手 机代数编排,按照结构和功能特点进行分类,实用性强,是手机维修人员的读物。本书可供广大手机维修人员,以及职业院校电器维修专业、 手机维修培训班的师生参考使用。