本书是在基本保持第3版教材内容、理论体系和风格的基础上,根据 “模拟电子技术基础”课程基本要求,结合教材使用情况及教学实践经验修订而成。本次修订的变化有:①删除了 1章,在其他各章增加了EDA技术应用部分,全面地展示了Multisim在模拟电子电路中的应用;②在例题与习题的选择和编写中,增加了 多仿真设计型的问题。 本书共分为十章,主要内容包括:半导体基础和二极管、双极型晶体管和基本放大电路、场效应晶体管和基本放大电路、多级放大电路和集成运算放大电路、功率放大电路、放大电路的频率响应、放大电路中的反馈、集成运算放大电路的线性应用、波形发生电路和集成运放的非线性应用以及直流电源。 本书可与王美玲主编的《数字电子技术基础》第4版配套使用,既可作为高等院校电气信息类、仪器仪表类及其他相关专业本科生教材
本书对自由电子激光的基本理论、物理机理、相关技术与实验,以及发 展前沿进行了系统介绍与论述。主要内容有:自由电子激光的特点、运行原 理与基本概念;自由电子激光的基本方程理论描述;自由电子激光中的重要 物理效应;自由电子激光实验装置相关技术介绍;自由电子激光基本运行模 式以及研究发展前沿。本书力图使读者能对自由电子激光全貌有一概要了解, 掌握重要的基本概念和物理图像。
\"本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面,在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。 本书共分为六章,其中, 章为绪论,介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型,以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台,除此之外,还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术,列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电
\"本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面,在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。 本书共分为六章,其中, 章为绪论,介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型,以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台,除此之外,还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术,列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电
\"本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面,在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。 本书共分为六章,其中, 章为绪论,介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型,以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台,除此之外,还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术,列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电
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本书是一部国际公认的经典教材,主要面向半导体装置、磁性材料、激光、和金属合金等领域的读者。初版于1985年,这是第4版。该书在固态物理理论基础上详细讨论了材料的电学、光学、磁学和热力学性质。内容深入浅出,从简单的物理模型开始,逐步过渡到材料电子特性的测定与应用实例。本版在第3版基础上,内容全面做了修订,增加了上述领域的近期新突破性进展。书中每章末有习题,书后附有习题解答。读者对象:固体物理、材料科学和器件物理等领域的研究生、科研人员及工程技术人员。
本书主要讲述激光物理学领域的各种现象和器件的基本原理。全书共分18章,阐述了适用于光通信和电子学的物理基础和工作原理,包括光学共振腔、各种激光器、波导、光纤、光栅和光子晶体;涵盖了光网络中光的传输、调制、放大和检测,以及光纤中的光学非线性效应等。本书中采用了电磁场理论、麦克斯韦方程组和电磁波传输方法,同时在每章中都附有大量习题和生动实例。