统计方法与技术是现代社会、经济研究运用的基本方法。本书旨在提高研究生量化分析能力，在众多统计方法中，选择最实用的现代统计分析方法，在不失理论严密性的前提下，力求理清问题背景、方法思想、具体步骤、分析技巧。本书以第三版为基础，删除了多变量图示法，大部分例题采用SPSS和SAS进行分析，所有例题和习题的数据都做成了电子文件以方便读者使用。本书既可作为非统计专业，如经济管理、人文社会科学类研究生学习现代统计分析方法之用，也可作为经济统计专业学生学习用书，同时也适合从事社会、经济、管理等研究和实际工作的从业人员进行量化研究参考阅读。
本书的主要内容是介绍如何用LHCb探测器收集的数据测量质子-质子在质心系能量为7 TeV碰撞下W玻色子的产生截面。 本书 章为概述。第二章对标准模型和质子一质子对撞下W玻色子截面的理论计算做了较详细的介绍。 第三章和第四章对LHCb探测器以及事例重建做了较完整的描述。第五章具体陈述了W玻色子产生截面的测量。第六章是对全书的总结。
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本书是在基本保持第3版教材内容、理论体系和风格的基础上，根据 “模拟电子技术基础”课程基本要求，结合教材使用情况及教学实践经验修订而成。本次修订的变化有：①删除了 1章，在其他各章增加了EDA技术应用部分，全面地展示了Multisim在模拟电子电路中的应用；②在例题与习题的选择和编写中，增加了 多仿真设计型的问题。 本书共分为十章，主要内容包括：半导体基础和二极管、双极型晶体管和基本放大电路、场效应晶体管和基本放大电路、多级放大电路和集成运算放大电路、功率放大电路、放大电路的频率响应、放大电路中的反馈、集成运算放大电路的线性应用、波形发生电路和集成运放的非线性应用以及直流电源。 本书可与王美玲主编的《数字电子技术基础》第4版配套使用，既可作为高等院校电气信息类、仪器仪表类及其他相关专业本科生教材
本书是在基本保持第3版教材内容、理论体系和风格的基础上，根据 “模拟电子技术基础”课程基本要求，结合教材使用情况及教学实践经验修订而成。本次修订的变化有：①删除了 1章，在其他各章增加了EDA技术应用部分，全面地展示了Multisim在模拟电子电路中的应用；②在例题与习题的选择和编写中，增加了 多仿真设计型的问题。 本书共分为十章，主要内容包括：半导体基础和二极管、双极型晶体管和基本放大电路、场效应晶体管和基本放大电路、多级放大电路和集成运算放大电路、功率放大电路、放大电路的频率响应、放大电路中的反馈、集成运算放大电路的线性应用、波形发生电路和集成运放的非线性应用以及直流电源。 本书可与王美玲主编的《数字电子技术基础》第4版配套使用，既可作为高等院校电气信息类、仪器仪表类及其他相关专业本科生教材
本书详细阐述如何选择统计检验方法，以及在应用这些方法时如何为统计理论和佳实践提供基础。本书聚焦于可应用于实际用户研究项目的方法，是作者实际工作经验、调查研究，以及对新的统计学、心理学、人因工程学的文献资料研读的结晶。它不只是对传统统计学的复述，而是为当今从业者提供了全新和切题的解读。
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本书介绍了统计学的基础知识，主要包括：数据种类及其来源，属性资料的统计描述，定量数据的描述分析，数据分布比较和数据变换，标准差的应用与正态模型，散点图与相关关系，简单线性回归分析，样本比例与均值的抽样分布，总体比例的区间估计与假设检验，均值推断分析，配对样本推断分析，拟合优度、一致性和独立性检验，回归推断分析，单因素和双因素方差分析，多元回归分析与建模等。 本书通俗易懂，各章内容紧紧相扣。以文字语言和大量的实例数据解读统计学的基本概念和方法，避免了复杂的数学表述。不强调统计的计算过程，重在引导读者如何认识统计数据的处理结果和学会统计学思维方式。阅读本书不需要多少数学基础，适合于大学低年级本科生、工商企业统计工作者、数据分析人员学习参考。
本书在结合了靠前、二版的编写经验，听取了使用过本教材师生的意见和建议并考虑当前工科学校的教学实际基础上修订而成。全书简明扼要，注重加强基础理论的同时，突出训练和培养学生科学思维创新能力，拓展学生的学术襟怀和眼光。全书分上、下两册，内容分五篇。靠前篇力学；第二篇电磁学；第三篇波动光学；第四篇热学；第五篇相对论与量子力学基础。
\"本书的内容主要聚焦于二次电子发射的理论模型和相关应用方面，在部分章节列举了几个典型案例展开讨论。本书的内容涵盖了二次电子的发射理论模型、测量、数据结果、表面工艺、介质带电分析以及典型应用场景介绍。内容涉及粒子物理理论、仿真算法、磁流体力学、表面工艺、表面表征等多领域。 本书共分为六章，其中， 章为绪论，介绍了二次电子发射和与此相关的介质带电概念和现状。第二章中主要介绍了四种主要的二次电子发射模型，以及分别针对导电金属和导电不良体的介质研制的测试平台，除此之外，还列出了部分典型金属和介质材料的二次电子发射数据。本书的第三部分介绍了常用的二次电子发射表面调控技术，列举了几种用于抑制二次电子发射的表面陷阱结构和用于表面调控的材料工艺。第四部分介绍了电子轰击表面的带电效应和二次电
