本书详细讲述了电子元器件、常用测量工具、模拟集成电路、数字数字电路、电源、单片机、微控制器、DSP、FPGA、物联网通信技术、传感器与自动检测技术、PID控制算法、数字滤波与标度变换的基础知识和设计实例,把初学电子电路设计所需要掌握的内容表现得淋漓尽致。书中讲述了多种电子线路、微控制器、DSP和FPGA仿真与开发工具,并给出了详细的软硬件应用实例。书中还讲述了国产GD32F4系列Arm、STC系列单片机、SC95F系列单片机、Wi-Fi MCU芯片及其应用。 全书共分23章,主要内容包括:绪论、电子设计与制作、基本电子元器件、常用测量仪器与仪表、电路设计与仿真 Altium Designer、电路分析基础、模拟集成电路设计与仿真、数字集成电路设计和仿真、STM32系列微控制器与开发、电路设计与数字仿真 Proteus及其应用、GD32微控制器与开发、STC系列单片机与开发、SC系列
硅光子技术在电信通信、数据中心、高性能计算、传感、航空航天等领域的广泛应用,特别是随着CMOS(互补金属氧化物半导体)技术的持续发展,光子技术与电子技术的融合有望最终取代电子技术。 本书详细地介绍了硅光子技术,从光无源器件到光有源器件,从功能结构设计到芯片制造,从制造到测试,从器件回路到系统回路,从理论分析计算到仿真等,涵盖器件结构原理、设计、制造、封测、仿真等全流程,结合大量实例详细说明硅光子从器件到系统各个环节的关键要素,并辅以仿真计算源代码供学习和参考。本书共四篇,第1篇介绍硅光子发展及其应用,包括硅光子研究现状、技术挑战和发展机遇;第2篇介绍光无源器件,包括光学材料和光波导、基本功能结构和光输入/输出结构;第3篇介绍光有源器件,包括光调制器、探测器和激光光源;第4篇介绍系统设计
本书经过全面修订,讲解了如何为当今尖端电子产品设计可靠、高性能的开关电源,涵盖现代拓扑结构和变换器,内容包括设计或选择带隙基准、使用详细的新型邻近效应设计方法进行变压器设计、Buck变换器效率损耗分解方法、有源复位技术、拓扑形态学和详细的AC-DC前级电路设计方法。 本版更新包含全面反馈环路的设计方法和实例、世界上第一个宽输入电压范围谐振(LLC)变换器的简化通用设计方法,以及正激和反激变换器的分步比较设计步骤。
相控阵雷达技术是一种先进的雷达技术,本书共分12章,包括概论、相控阵雷达的主要战术与技术指标分析、相控阵雷达工作方式设计与资源管理、相控阵雷达天线波束的控制、相控阵雷达天线与馈线系统的设计、相控阵雷达发射机系统、相控阵雷达接收系统、多波束形成技术、有源相控阵雷达技术、宽带相控阵雷达技术、新型高性能半导体器件在相控阵雷达技术中的应用、微波光子相控阵雷达技术。作者根据多年从事相控阵雷达研制工作的经验与学习心得,结合近年来技术最新进展,完成本书写作,奉献给从事相关研究、生产、使用和教学人员参考。
《半导体干法刻蚀技术(原书第2版)》是一本全面系统的干法刻蚀技术论著。针对干法刻蚀技术,在内容上涵盖了从基础知识到最新技术,使初学者能够了解干法刻蚀的机理,而无需复杂的数值公式或方程。《半导体干法刻蚀技术(原书第2版)》不仅介绍了半导体器件中所涉及材料的刻蚀工艺,而且对每种材料的关键刻蚀参数、对应的等离子体源和刻蚀气体化学物质进行了详细解释。《半导体干法刻蚀技术(原书第2版)》讨论了具体器件制造流程中涉及的干法刻蚀技术,介绍了半导体厂商实际使用的刻蚀设备的类型和等离子体产生机理,例如电容耦合型等离子体、磁控反应离子刻蚀、电子回旋共振等离子体和电感耦合型等离子体,并介绍了原子层沉积等新型刻蚀技术。
雷达信号处理技术是雷达系统的重要组成部分。它完成从雷达接收回波中检测目标、提取目标信息、形成目标航迹等信息处理过程。随着雷达功能的多样化和电磁环境的复杂化,雷达信号处理技术发展迅速,已成为提高雷达系统性能的关键技术。本书共分11章。第1章为概述。第2章到第6章讨论了雷达信号处理的基础知识,包括雷达信号形式和信号分析,雷达脉冲压缩,雷达杂波抑制,雷达信号检测等;第6章到第9章讨论了阵列信号处理,抗干扰信号处理,雷达信号处理系统技术;第10章和第11章分别讨论了雷达点迹数据形成与处理,以及雷达航迹处理综合处理技术。
本书对星地融合移动通信系统与关键技术进行介绍,以无线信道建模与链路预算分析作为系统设计的基础,深入剖析星地融合移动通信系统的组成及对应的关键技术,具体包括无线传输,移动性管理,网络架构及安 全机制,星座组网、星间通信与智能路由,频谱共享与干扰管理等多个方面,为广大读者深入了解5G增强和6G的星地融合移动通信系统提供参考。 本书既可作为卫星通信系统、卫星互联网、空间互联网、地面移动通信系统、星地融合移动通信系统等领域研究人员和学生的参考书,又可供相关领域的技术人员使用。
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中,正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律(器件集成度每两年左右翻一番)得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面,包括设备、材料、仿真(计算光刻)和工艺,内容直接取材于国际先进集成电路制造技术,为了保证先进性,特别侧重于 32nm 节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例,这些实例都是经过生产实际验证的,希望能对读者有所启发。
硅基光电子学是作者遵循半导体科学和信息科学的发展规律,在微电子、光电子、光通信领域数十年教学科研成果的总结。本书分为基础篇和应用篇。基础篇由第1章~第10章组成,包括绪论、硅基光电子学基本理论、硅基光波导、硅基光无源器件、硅基光源、硅基光学调制、硅基光电探测、硅基表面等离激元、硅基非线性光学效应、硅基光电子器件工艺及系统集成等。应用篇由第11章~第18章组成,包括硅基光通信和光互连、硅基光交换、硅基光电计算、硅基图像传感、硅基片上激光雷达、硅基光电生物传感、硅基光信号处理、硅基光电子芯片的设计与仿真等。
本书对基本的电气和电子概念、工程电路及应用、故障排查进行了全面而实用的阐述,分为直流电路、交流电路和元器件三个部分。本书提供大量的工程电路应用实例,电路测试、调试与计算机仿真贯穿始终,步骤详细的例题、形式多样的练习便于读者自学。众多技术和安全小贴士等加强了理论与实践的联系,并帮助读者加强工程思维并学以致用。本书是第9版,对部分内容进行了更新和修订,以满足当前的行业标准,包括电池技术和可再生能源等主题。
在21世纪,大数据、人工智能等高新信息科技飞速发展之际,自旋电子学凭借其在低功耗非易失存储和存算一体化方面的独特优势,已成为推动后摩尔时代集成电路革命性创新的关键技术。全书共10章。第1章概述自旋电子学的发展历程;第2章详细介绍自旋轨道力矩效应的物理原理、检测技术、材料选择及其调控与应用;第3章讨论电控磁效应的材料体系、物理机制和器件实用性;第4章专注于反铁磁自旋电子学,探讨反铁磁磁矩的调控与检测方法;第5章从横向输运、纵向输运和相干输运三个角度全面介绍磁子学;第6章解析磁斯格明子的生成、探测及其动力学特性,并探讨其在器件中的应用前景;第7章和第8章简要介绍拓扑磁性和二维磁性;第9章和第10章则阐述自旋电子学与光学、声学的交叉研究领域。
本书以当前半导体电子产业所出现的技术革命为背景,针对柔性电子技术在信息、能源、医疗、国防等重要领域的应用需求,简要介绍柔性电子技术的概念、发展历程和重要应用方向,系统介绍柔性电子器件设计方法、柔性电子功能材料、柔性电子关键制备技术、柔性固体器件、柔性集成电路及系统和柔性电子检测技术与可靠性分析等所面临的机遇与挑战,并对柔性电子的发展前景进行展望。
本书采用原创概念、热点技术和实际案例相结合的方式,讲述了SiP技术从构思到实现的整个流程。全书分为三部分:概念和技术、设计和仿真、项目和案例,共30章。第1部分基于SiP及先进封装技术的发展,以及作者多年积累的经验,提出了功能密度定律、Si3P和4D集成等原创概念,介绍了SiP和先进封装的*技术,共5章。第2部分依据*EDA软件平台,阐述了SiP和HDAP的设计仿真验证方法,涵盖了Wire Bonding、Cavity、Chip Stack、2.5D TSV、3D TSV、RDL、Fan-In、Fan-Out、Flip Chip、分立式埋入、平面埋入、RF、Rigid-Flex、4D SiP设计、多版图项目及多人协同设计等热点技术,以及SiP 和HDAP的各种仿真、电气验证和物理验证,共16章。第3部分介绍了不同类型SiP实际项目的设计仿真和实现方法,共9章。
集成电路是现代电子技术的核心,随着集成电路产业迅猛发展,对专业人才的需求正急剧上升。本书从集成电路制造的工艺、设备、厂务 3 个关键内容出发,融合了集成电路制造的理论基础和前沿实践技术,深入浅出地探讨了集成电路制造的全过程。通过大量工艺设备的使用案例分析、实验数据、设备操作标准程序和教学实践视频,帮助读者掌握实际操作。此外,在介绍当前主流制造技术的同时,还深入讲解了产业界量产设备的基本原理、动力需求和应用实践。 上海科技大学材料器件中心聚焦集成电路先进制造领域卓越工程师的人才培养任务,依托先进一流的设备资源、资深工程师团队,联合产业界专家,将集成电路先进制造理论与实践有机结合,精心打造本书,旨在为读者提供全面、深入且实用的学习资料。本书不仅适用于本科生、研究生,对从事集成电路
本书由倒装芯片封装技术领域*专家撰写而成,系统总结了过去十几年倒装芯片封装技术的发展脉络和*成果,并对未来的发展趋势做出了展望。内容涵盖倒装芯片的市场与技术趋势,凸点技术,互连技术,下填料工艺与可靠性,导电胶应用,基板技术,芯片 封装一体化电路设计,倒装芯片封装的热管理和热机械可靠性问题,倒装芯片焊锡接点的界面反应和电迁移问题等。本书适合从事倒装芯片封装技术以及其他先进电子封装技术研究的工程师,科研人员和技术管理人员阅读,也可以作为电子封装相关专业高年级本科生,研究生和培训人员的教材和参考书。
本书是一本综合性很强的半导体集成电路制造方面的参考手册,由70多位国际专家撰写,并在其前一版的基础上进行了全面的修订与更新。本书内容涵盖集成电路芯片、MEMS、传感器和其他电子器件的设计与制造过程,相关技术的基础知识和实际应用,以及对生产过程的计划、实施和控制等运营管理方面的考虑。第二版新增了物联网、工业物联网、数据分析和智能制造等方面的内容,讨论了半导体制造基础、前道和后道工序、柔性复合电子技术、气体和化学品及半导体工厂的操作、设备和设施的完整细节。
本书主要介绍微/纳机电系统(MEMS/NEMS)谐振器动力学设计理论、分析方法及应用技术。全书共9章,主要内容包括:MEMS/NEMS技术基础和MEMS/NEMS谐振器技术的发展历程与发展趋势;谐振器的工作原理、谐振结构设计理论及分析技术;谐振器件制备涉及的材料、微纳加工工艺及技术;谐振器中存在的丰富非线性现象和复杂动力学行为;微纳尺度下的能量耗散理论、阻尼特性、作用机制及测试方法;谐振器中应用的各种振动激励与检测原理及技术;通道式MEMS/NEMS谐振器检测原理、动力学设计与分析技术;微纳尺度下谐振器件的模态弱耦合作用机制、谐振器设计及传感技术;谐振器中存在的典型失效模式与失效机理,以及多种可靠性评估方法和测试技术。
电磁超材料能够灵活调控电磁波的传播行为,改变无线信道环境的电磁特性,实现电磁空间的智能可控,为下一代通信和雷达技术的发展提供了新的思路。电磁超材料由精心设计的超材料单元规则排列组成,是一种具有可编程电磁特性的二维人工结构表面。通过对电磁超材料单元幅相状态的动态配置,可实现其散射特性的精准调控,实现电磁环境的智能重塑。 本书介绍电磁超材料的编码策略、设计机理、关键技术和信息调控等方面内容,并对其未来的应用进行初步的探讨和展望。书中的内容是在东南大学崔铁军院士团队多年来的工作基础上总结而成,部分内容于2014年和2018年两次入选国家自然科学奖二等奖,入选2016年美国光学学会Optics Photonics News遴选的 激动人心的30项同行评议光学成果 、《中国激光》杂志社遴选的 全球光学十大科研突破 、以及 国家自然科学
本书分上、中、下三册,全方位、多角度地介绍集成电路全产业链各个环节的相关知识。既综合了集成电路发展历程、应用技术、产业经济、未来趋势等内容,也详细讲解了集成电路设计、制造、生产线建设、封装测试、专用设备、专用材料等内容,还介绍了集成电路的新技术、新材料、新工艺以及前沿技术发展方向等具有前瞻性的新知识。
本书采用大量图表,通过理论和生产案例相结合的方式,全面系统地介绍电子组装的可制造性设计。首先概述了对电子组装技术的发展、焊接技术,然后介绍了电子组装可制造性设计简介和实施流程(第4章到第12章按照DFM检查表的顺序详细讲解了电子组装的可制造性设计规范,包含DFM所需的数据、组装方式和工艺流程设计、元器件选择、PCB技术和材料选择、PCB拼板、元器件焊盘设计、孔的设计、PCBA的可制造性设计、覆铜层和丝印图形设计),接下来讲述了电子组装的散热设计和电磁兼容、可测试性设计,最后讲解了可制造性的审核报告和常用软件,并在附录中给出DFM和DFT的检查表供参考。本书可帮助电子产品设计工程师提升设计水平,提高产品质量,降低成本,缩短研发周期,同时还能帮助电子产品制造工程师学会判断哪些工艺质量问题来自于设计。
本书从现代微电子装备生产、使用中所发生的大大小小的数百个缺陷和故障中,筛选出201个较典型的案例,按照现象描述及分析、形成原因及机理、解决措施等层次,将其编辑成册,旨在为现代微电子装备生产、使用中所发生的缺陷与故障的诊断提供一个较为敏捷的解决方法。本书可作为大中型电子制造企业中从事微电子装备制造工艺、质量、用户服务、计划管理以及相关设计等工作的高端工程技术人员的工作手册。
当前和今后一段时期将是我国集成电路和光电芯片技术发展的重要战略机遇期和攻坚期,加强自主集成电路和光电芯片技术的研发工作,布局和突破关键技术并拥有自主知识产权,实现集成电路产业的高质量发展是我国当前的重大战略需求。《中国集成电路与光电芯片 2035发展战略》面向 2035年探讨了国际集成电路与光电芯片前沿发展趋势和中国从芯片大国走向芯片强国的可持续发展策略,围绕上述相关方向开展研究和探讨,并为我国在未来集成电路和光电芯片发展中实现科技与产业自立自强,在国际上发挥更加重要作用提供战略性的参考和指导意见。