《现代化学专著系列:复杂晶体化学键的介电理论及其应用》详细地阐述了介电描述的晶体化学键理论和方法,特别是复杂晶体化学键的介电理论方法,为研究复杂体系的性质开辟了一种新途径。书中利用该理论方法不仅计算了大量复杂晶体的化学键参数,还展示了应用于非线性光学系数,高温超导体化学键分析,晶体环境对晶体功能性质的影响,复杂晶体品格能等性质的计算方法和过程。 《现代化学专著系列:复杂晶体化学键的介电理论及其应用》包括基本概念、理论分析、公式推导、数据结果和应用等几部分内容,同时,书中还为科学研究和实际应用提供了一些有用的数据和规律性内容。 《现代化学专著系列:复杂晶体化学键的介电理论及其应用》可供从事材料科学、理论化学、固体物理和无机化学方面的科研工作者,高等学校教师和研究生参考。
伊凡·V·马尔可夫著牛刚、王志明译的《晶体生长初步(成核晶体生长和外延基础第2版)(精)/材料科学经典著作选译》是一本关于成核、晶体生长和外延的经典教科书,也是一本对于材料、物理、电子类专业的高年级本科生、研究生以及相关研究人员、教师的很好有价值的参考书。与该领域同类的书籍相比,本书不但是很早的专著之一,而且也是影响力很大的一本。 本书没有过多涉及晶体生长和外延的相关基本技术手段,而是集中笔墨介绍了关于晶体生长和外延的热力学和原子动力学理论,并将这些理论与实际中遇到的现象紧密结合在一起,作了深入浅出的解释。本书内容翔实、结构清晰、说理明快,读者会有很大收获。
《Springer手册精选系列·晶体生长手册(第4册):蒸发及外延法晶体生长技术()》的主题是气相生长。这一部分提供了碳化硅、氮化镓、氮化铝和有机半导体的气相生长的内容。随后的PartE是关于外延生长和薄膜的,主要包括从液相的化学气相淀积到脉冲激光和脉冲电子淀积。
电子背散射衍射(简称EBSD)技术是基于扫描电镜中电子束在倾斜样品表面激发出的衍射菊池带的分析确定晶体结构、取向及相关信息的方法。《电子背散射衍射技术及其应用》系统地阐述了。EBSD技术的含义、特点(或优势)及应用领域;简述了EBSD技术的发展过程和在我国的应用现状,以及与其他相关测试技术的比较;介绍了与EBSD技术相关的晶体学知识和晶体取向(织构)的基本知识;以及EBSD测定分析过程中涉及的原理和相关硬件,EBSD数据的处理;总结了EBSD样品制备可能遇到的问题及作者应用时解决一些难题的经验。最后给出作者应用。EBSD技术的一些例子。《电子背散射衍射技术及其应用》可供从事材料、地质、矿物研究等工作的技术人员以及从事EBSD技术及扫描电镜分析工作的操作人员阅读,也可作为高等工科院校材料工程专业高年级本科、研究生的,以及专
《Springer手册精选系列·晶体生长手册(第4册):蒸发及外延法晶体生长技术()》的主题是气相生长。这一部分提供了碳化硅、氮化镓、氮化铝和有机半导体的气相生长的内容。随后的PartE是关于外延生长和薄膜的,主要包括从液相的化学气相淀积到脉冲激光和脉冲电子淀积。
本书从晶界与晶体塑性关系着手,基于原子尺度、纳观尺度、微观尺度、介观尺度和宏观尺度,系统介绍了晶界基本结构与晶体材料力学行为之间的关系,强调了晶界对于工程应用领域中的多晶体材料所具有的重要意义。本书共六章, 章为晶界结构与缺陷,第2 章为晶界变形的基本机制,第3 章为冷变形晶界? ,第4 章为蠕变与高温塑性——晶界动力学,第5 章为晶间疲劳,第6 章为晶间偏析与晶体材料的断裂。
液晶高分子是在液晶科学和高分子科学两个较新学科得到很大发展的基础上,从本世纪70年代迅速发展起来的,并得到学术界和工业界同时关注与重视。液晶高分子或者具有超过其它结构材料的力学性能,或可提供其它材料所不能比拟的其它物理性能。因此,短短十几年间已成功地实现了几大类液晶高分子产品的工业化,并获得巨额利润。另外,研究物质液晶态对于了解物质的结构以及与此相应的结构与性能的关系,从而使材料体现并充分发挥有用的特性也是至关重要的。《液晶高分子》在介绍液晶高分子基本概念和基本理论的基础上,重点讨论液晶高分子的结构与性能的关系,并分别对作为结构材料和功能材料的液晶高分子进行讨论,还重点讨论高分子液晶态的表征与研究方法。《液晶高分子》既是本学科的理论概括,又是作者实际工作的经验总结。《液晶高分
多年以来,有很多探索研究已经成功地描述了晶体生长的生长工艺和科学,有许多文章、专著、会议文集和手册对这一领域的前沿成果做了综合评述。这些出版物反映了人们对体材料晶体和薄膜晶体的兴趣日益增长,这是由于它们的电子、光学、机械、微结构以及不同的科学和技术应用引起的。实际上,大部分半导体和光器件的现代成果,如果没有基本的、二元的、三元的及其他不同特性和大尺寸的化合物晶体的发展则是不可能的。这些文章致力于生长机制的基本理解、缺陷形成、生长工艺和生长系统的设计,因此数量是庞大的。本手册针对目前备受关注的体材料晶体和薄膜晶体的生长技术水平进行阐述。我们的目的是使读者了解经常使用的生长工艺、材料生产和缺陷产生的基本知识。为完成这一任务,我们精选了50多位科学家、学者和工程师,他们的合作者来自
多年以来,有很多探索研究已经成功地描述了晶体生长的生长工艺和科学,有许多文章、专著、会议文集和手册对这一领域的前沿成果做了综合评述。这些出版物反映了人们对体材料晶体和薄膜晶体的兴趣日益增长,这是由于它们的电子、光学、机械、微结构以及不同的科学和技术应用引起的。实际上,大部分半导体和光器件的现代成果,如果没有基本的、二元的、三元的及其他不同特性和大尺寸的化合物晶体的发展则是不可能的。这些文章致力于生长机制的基本理解、缺陷形成、生长工艺和生长系统的设计,因此数量是庞大的。 本手册针对目前备受关注的体材料晶体和薄膜晶体的生长技术水平进行阐述。我们的目的是使读者了解经常使用的生长工艺、材料生产和缺陷产生的基本知识。为完成这一任务,我们精选了50多位科学家、学者和工程师,他们的
液晶高分子是在液晶科学和高分子科学两个较新学科得到很大发展的基础上,从本世纪70年代迅速发展起来的,并得到学术界和工业界同时关注与重视。液晶高分子或者具有超过其它结构材料的力学性能,或可提供其它材料所不能比拟的其它物理性能。因此,短短十几年间已成功地实现了几大类液晶高分子产品的工业化,并获得巨额利润。另外,研究物质液晶态对于了解物质的结构以及与此相应的结构与性能的关系,从而使材料体现并充分发挥有用的特性也是至关重要的。 《液晶高分子》在介绍液晶高分子基本概念和基本理论的基础上,重点讨论液晶高分子的结构与性能的关系,并分别对作为结构材料和功能材料的液晶高分子进行讨论,还重点讨论高分子液晶态的表征与研究方法。《液晶高分子》既是本学科的理论概括,又是作者实际工作的经验总结。 《
本书介绍了共晶凝固理论的研究进展、相场法数值模拟的概念及其应用以及典型的多相场模型的建立及应用。全书共7章,其中共晶合金定向生长形态演化是其核心内容,包括二维形态演化和三维形态演化。本书从多相场模型的建立、参数的选择及边界条件的确定开始,分别研究了共晶合金的形态演化、形态演化过程中的共晶层片厚度效应及影响形态演化过程的因素,为进一步研究共晶合金的微观组织奠定了基础。 本书可作为材料加工学科及物理学科研究生教材,也可供从事相场模拟研究的高校教师、企业工程技术人员等广大科研工作者参考。
电子背散射衍射(简称EBSD)技术是基于扫描电镜中电子束在倾斜样品表面激发出的衍射菊池带的分析确定晶体结构、取向及相关信息的方法。《电子背散射衍射技术及其应用》系统地阐述了。EBSD技术的含义、特点(或优势)及应用领域;简述了EBSD技术的发展过程和在我国的应用现状,以及与其他相关测试技术的比较;介绍了与EBSD技术相关的晶体学知识和晶体取向(织构)的基本知识;以及EBSD测定分析过程中涉及的原理和相关硬件,EBSD数据的处理;总结了EBSD样品制备可能遇到的问题及作者应用时解决一些难题的经验。最后给出作者应用。EBSD技术的一些例子。《电子背散射衍射技术及其应用》可供从事材料、地质、矿物研究等工作的技术人员以及从事EBSD技术及扫描电镜分析工作的操作人员阅读,也可作为高等工科院校材料工程专业高年级本科大学生、研究生的教