《压电振动理论与应用》(作者王矜奉、苏文斌、王春明、盖志刚)论述了各类压电谐振器件的基本理论。前五章从弹性动力学、压电学及电学的基本理论出发，系统地分析了处于各种边界条件或应力条件下的压电器件的谐振特性；第6章论述了压电谐振器的等效参数、压电材料常数与频谱的关系及这些常数的测定方法；第7章讲述了求解压电谐振器谐振频谱的若干实用的近似方法。 《压电振动理论与应用》可作为高等院校功能材料、自动控制、电气工程、应用声学、水声科学、弹性动力学等专业高年级本科生或研究生的专业教科书，也可作为从事谐振器、滤波器、传感器等压电器件研究、设计、应用或制造的科技工作者的参考书。

《现代物理基础丛书34：近代晶体学（第二版）》系统地论述晶体与近代晶体学、晶体结构周期性点阵描述、晶体对称性理论、晶体形态学、晶体的衍射效应及其应用、晶体结构及其形成、晶体的物理性质、晶体生长、晶体缺陷、磁晶与磁群、准晶体、纳米晶体、液晶等。 全书共14章。一至十章多属于经久不衰、长期起作用的晶体学理论及其应用。十一至十四章为近代晶体学发展拓宽的内容。 《现代物理基础丛书34：近代晶体学（第二版）》可供从事晶体学、晶体物理、晶体化学、材料科学等研究、教学和应用的人员及高等院校有关专业的师生参考。

本书系统地介绍了位错的基本理论及其在工程领域中的应用，内容主要包括位错的结构，位错的弹性理论、位错的运动与交割，实际晶体结构中的位错，位错的来源及实验基础，位错理论的应用。 本书可作为金属材料及热处理和其他热加工专业以及冷加工专业的本科生及研究生的教材，也可供相关学科领域科技人员参考。

《晶体中的位错（重排本）》成书背景如下：位错理论在本世纪30年代发源于英国，成熟于40年代末，得到国际学术界广泛的重视。而我国由于受苏联学术界的影响，位错理论一时无法推广。直至1959年，钱临照才开始在物理研究所内写讲义，讲授和讨论这个国际公认的学说。随后，举行了两次全国性的晶体缺陷和金属强度的讨论会。钱临照和杨顺华合写了10万字的《晶体中位错理论基础》赴会报告，后集结成册出版，向那一代物理学工作者介绍了此领域的基本理论，对他们的科研与工作具有很大的指导意义。

本书分4篇探讨晶体生长的原理与技术。篇为晶体生长的基本原理，对晶体生长的热力学原理、动力学原理、界面过程、生长形态以及晶体生长初期的形核相关原理进行论述。第二篇为晶体生长的技术基础，分3章进行晶体生长过程的涉及传输行为(传质、传热、对流)、化学基础问题(包括材料的提纯与合成问题)以及物理基础(电、磁、力的作用原理)的综合分析。第三篇为晶体生长技术，分4章分别对以Bridgman法为主的熔体法晶体生长、以Czochralski方法为主的熔体法晶体生长、溶液法晶体生长以及气相晶体生长技术与发展进行介绍。第四篇分2章分别对晶体生长过程中缺陷的形成与控制和晶体的结构与性能表征方法进行论述。 本书可供从事晶体生长的科研和工程技术人员阅读，也可作为该领域研究生的教学参考书。

本书分4篇探讨晶体生长的原理与技术。篇为晶体生长的基本原理，对晶体生长的热力学原理、动力学原理、界面过程、生长形态以及晶体生长初期的形核相关原理进行论述。第二篇为晶体生长的技术基础，分3章进行晶体生长过程的涉及传输行为(传质、传热、对流)、化学基础问题(包括材料的提纯与合成问题)以及物理基础(电、磁、力的作用原理)的综合分析。第三篇为晶体生长技术，分4章分别对以Bridgman法为主的熔体法晶体生长、以Czochralski方法为主的熔体法晶体生长、溶液法晶体生长以及气相晶体生长技术与发展进行介绍。第四篇分2章分别对晶体生长过程中缺陷的形成与控制和晶体的结构与性能表征方法进行论述。 本书可供从事晶体生长的科研和工程技术人员阅读，也可作为该领域研究生的教学参考书。

位错理论起源于用弹性体中位错的行为来解释晶体的范性性质，尔后发展成为晶体缺陷理论的一个重要独立部分。现代位错理论已是金属力学性质微观理论的基础，位错与固体各种结构敏感的物理性质都有相当的联系，在理论上也取得了若干新进展。 《晶体位错理论基础》内容是位错理论的基础，分两卷出版，《晶体位错理论基础（第二卷）》是第二卷，主要论述位错与点缺陷的相互作用，位错的攀移与滑移，晶界、相界的位错模型，位错与裂纹，位错与马氏体相变，向错理论基础以及新近发展起来的准晶体中的位错理论。书末还附有两个附录，即位错塞积群和平面弹性理论提要。 《晶体位错理论基础（第二卷）》可作为大专院校金属物理、材料科学及固体理论方面的高年级学生和研究生的教学用书或参考书，也可供有关教师及从事金属及其他材料研究

本书从液晶物理和化学基础出发，详细介绍了液晶光学，并讨论了各类液晶显示的原理，结构和特性，深入介绍了高端应用中液晶显示的新发展，以及各类光学薄膜的应用。最后介绍了液晶显示的制备、驱动和测量。本书是液晶光学和液晶显示的基础和进展的学科概述，包含了作者多年研究的经验。以内容的科学性和实用性为主，同时兼顾基础性和连贯性。

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本书介绍了共晶凝固理论的研究进展、相场法数值模拟的概念及其应用以及典型的多相场模型的建立及应用。全书共7章，其中共晶合金定向生长形态演化是其核心内容，包括二维形态演化和三维形态演化。本书从多相场模型的建立、参数的选择及边界条件的确定开始，分别研究了共晶合金的形态演化、形态演化过程中的共晶层片厚度效应及影响形态演化过程的因素，为进一步研究共晶合金的微观组织奠定了基础。 本书可作为材料加工学科及物理学科研究生教材，也可供从事相场模拟研究的高校教师、企业工程技术人员等广大科研工作者参考。

光子晶体是不同折射率的电介质材料在空间呈周期性排列构成的晶体结构，它是材料科学、光学原理与集成技术以及微纳电子技术相结合的一门新兴学科，它代表了光集成电路的发展趋势，并将成为下一代新型的光电器件和光集成技术的基础。本书内容包含三个部分：部分系统地阐述了光子晶体的基本概念和理论，主要包括光子晶体的概念和性质（章），光子晶体的分析方法和电磁波理论（第2章）；第二部分介绍了光子晶体的制备方法（第3章）；第三部分给出了光子晶体的应用，介绍了新型的光子晶体光学器件，包括光子晶体光开关、滤波器、光波导（第4章），光子晶体光纤的工作原理与技术（第5章），胶体光子晶体（第6章），光子晶体发光（第7章）和负折射率光子晶体（第8章）。 本书适合于从事微纳光学和光通信、微纳电子科学与技术、微电子学、应

光子晶体是不同折射率的电介质材料在空间呈周期性排列构成的晶体结构，它是材料科学、光学原理与集成技术以及微纳电子技术相结合的一门新兴学科，它代表了光集成电路的发展趋势，并将成为下一代新型的光电器件和光集成技术的基础。本书内容包含三个部分：部分系统地阐述了光子晶体的基本概念和理论，主要包括光子晶体的概念和性质（章），光子晶体的分析方法和电磁波理论（第2章）；第二部分介绍了光子晶体的制备方法（第3章）；第三部分给出了光子晶体的应用，介绍了新型的光子晶体光学器件，包括光子晶体光开关、滤波器、光波导（第4章），光子晶体光纤的工作原理与技术（第5章），胶体光子晶体（第6章），光子晶体发光（第7章）和负折射率光子晶体（第8章）。 本书适合于从事微纳光学和光通信、微纳电子科学与技术、微电子学、应

本书是B K 伐因斯坦（主编）、A A 契尔诺夫和L A 舒瓦洛夫主持编写的《现代晶体学》4卷本中的第3卷，本书的主要作者是A A 契尔诺夫，参加编写的还有其他5位专家。本书由结晶过程和晶体生长两大部分组成。部分包含的内容有：平衡、成核和外延、生长机制、杂质、质量和热输运、生长外形及其稳定性、缺陷的产生和团块结晶等；第二部分介绍气相生长、溶液生长和熔体生长。本书可作为固体物理、材料科学、晶体学、金属学、矿物学、化学等专业的教师、研究生、大学生的教材或教学参考书，并可供有关科技人员参考。

本书较为系统地阐述了晶体材料中存在的各种对称性和晶体的取向特性，并以无机晶体材料为背景，介绍了常见的晶体结构特征及晶体结构检测原理。在完整晶体结构的基础上，还分析讨论了晶体的缺陷特征，包括点缺陷、位错的弹性特征、晶界的取向特征等。 借助本书，读者可从材料工程角度对材料晶体学和晶体结构知识有较深入的了解和程度的知识更新，为在材料科学与工程领域中进行新材料的研究和新工艺的开发奠定良好的晶体学基础。 本书可作为材料专业硕士研究生的专业基础教材，或材料专业本科学生、博士研究生的专业参考书；也可供从事材料科学与工程研究的科研人员、高等学校教师或相关企业工程技术人员阅读。

本书是一部经典的结晶学教材，1961年初版， 1972年第2版，1992年第3版，1994年、1995年重印出版，1997年简装版出版，2001年第4版全面修订出版，备受关注。书中系统阐述了结晶学的基本原理，包括晶体学、晶体学的物性、结晶动力学、结晶技术以及结晶设备的设计原理和操作。新版在第3版的基础上进行了较全面的改写，同时增加了不少新的内容，反映了该领域近年来的主要进展。该书录提供了大量有关

光子晶体是不同折射率的电介质材料在空间呈周期性排列构成的晶体结构，它是材料科学、光学原理与集成技术以及微纳电子技术相结合的一门新兴学科，它代表了光集成电路的发展趋势，并将成为下一代新型的光电器件和光集成技术的基础。本书内容包含三个部分：部分系统地阐述了光子晶体的基本概念和理论，主要包括光子晶体的概念和性质（章），光子晶体的分析方法和电磁波理论（第2章）；第二部分介绍了光子晶体的制备方法（第3章）；第三部分给出了光子晶体的应用，介绍了新型的光子晶体光学器件，包括光子晶体光开关、滤波器、光波导（第4章），光子晶体光纤的工作原理与技术（第5章），胶体光子晶体（第6章），光子晶体发光（第7章）和负折射率光子晶体（第8章）。 本书适合于从事微纳光学和光通信、微纳电子科学与技术、微电子学、应