液晶高分子是在液晶科学和高分子科学两个较新学科得到很大发展的基础上,从本世纪70年代迅速发展起来的,并得到学术界和工业界同时关注与重视。液晶高分子或者具有超过其它结构材料的力学性能,或可提供其它材料所不能比拟的其它物理性能。因此,短短十几年间已成功地实现了几大类液晶高分子产品的工业化,并获得巨额利润。另外,研究物质液晶态对于了解物质的结构以及与此相应的结构与性能的关系,从而使材料体现并充分发挥有用的特性也是至关重要的。 《液晶高分子》在介绍液晶高分子基本概念和基本理论的基础上,重点讨论液晶高分子的结构与性能的关系,并分别对作为结构材料和功能材料的液晶高分子进行讨论,还重点讨论高分子液晶态的表征与研究方法。《液晶高分子》既是本学科的理论概括,又是作者实际工作的经验总结。 《
CorelDRAW是一个基于Windows平台的向量绘图软件,原用于美术、广告界。由于功能强大,尤其是它卓越的图形和文字编辑处理功能,它已经受到了地图制图和地图出版部门的青睐。它不仅是一个很好的专题地图绘图软件,而且还是一个能组版并能直接输出EPS文件格式的桌面出版软件。CorelDRAW软件除了具有目前我国普遍使用的AUTOCAD、MAPGIS等软件的绘图功能外,还有很多非常特殊甚至于是非常神奇的功能,而这些功能恰恰都是地图制图最需要的。 线型符号的开发和应用是本书的一大特点,文口果说过去有人不愿意使用
本书介绍了共晶凝固理论的研究进展、相场法数值模拟的概念及其应用以及典型的多相场模型的建立及应用。全书共7章,其中共晶合金定向生长形态演化是其核心内容,包括二维形态演化和三维形态演化。本书从多相场模型的建立、参数的选择及边界条件的确定开始,分别研究了共晶合金的形态演化、形态演化过程中的共晶层片厚度效应及影响形态演化过程的因素,为进一步研究共晶合金的微观组织奠定了基础。本书可作为材料加工学科及物理学科研究生教材,也可供从事相场模拟研究的高校教师、企业工程技术人员等广大科研工作者参考。
本书是一本有关新型晶体材料的制备、光谱分析和应用的专著。全书主要由三部分组成:部分包括晶体材料进展,晶体学基础,晶体结构,相图,晶体生长动力学;第二部分包括材料的光学性能,固体的发光,光谱及其表示,过渡金属离子光谱和稀土离子光谱;第三部分介绍了新型激光晶体,上转换激光晶体,闪烁体和拉曼激光晶体的研究进展。该书为新型晶体材料研究和探索可以提供有益的参考。本书对于从事晶体生长,固体激光器研制和发光材料研究的研究生与科技工作者有很好的参考价值。
《晶体中的位错(重排本)》成书背景如下:位错理论在本世纪30年代发源于英国,成熟于40年代末,得到国际学术界广泛的重视。而我国由于受苏联学术界的影响,位错理论一时无法推广。直至1959年,钱临照才开始在物理研究所内写讲义,讲授和讨论这个国际公认的学说。随后,举行了两次全国性的晶体缺陷和金属强度的讨论会。钱临照和杨顺华合写了10万字的《晶体中位错理论基础》赴会报告,后集结成册出版,向那一代物理学工作者介绍了此领域的基本理论,对他们的科研与工作具有很大的指导意义。
《x射线晶体学基础(第二版)》是作者在多年的科研和教学基础上积累而成。运用几何学的概念和方法系统地分析和推导晶体的对称性原理及晶体的衍射原理,给读者以鲜明的立体概念,便于理解、掌握和应用。《x射线晶体学基础(第二版)》共分为三部分:几何晶体学基本原理、微观空间对称原理和晶体中X射线衍射基本原理。一、二篇运用一般位置等效点系中的等效点在空间的对称分布与空间对称性相一致的原理,分别对晶体的宏观对称性、微观对称性及对称组合规律进行深人的阐述和分析,并对32个点群和230个微观空间对称组合给予系统推导。第三篇在晶体点阵与其倒易点阵相互关系的基础上,运用倒易点阵与反射球的数学模型及其相互作用关系,详细阐明劳埃散射方程和布拉格反射方程,并从原理上简明地描述了几种常用的重要的单晶衍射方法和仪器的实际
内容简介
科学技术是生产力,社会主义的现代化建设事业首先需要科学技术的现代化。大力发展科学技术已成为我国的基本国策。我们不仅需要广大科技工作者在各自的领域奋发努力赶超世界水平,而且需要提高全体国民的科学文化素质。惟有科学知识得以普及、科学精神深入人心,我们的社会才算真正走入了科学时代,科技才能真正推动各个方面的现代化。 ?? ?? ??应当看到,科学普及工作在当前仍然是一项相当艰巨的任务。不懂科学,不按科学规律办事,在我们的社会生活中屡见不鲜;另一方面,各种伪科学借着科学的名义到处招摇撞骗。不仅是科普工作者,广大科技工作者和教育工作者都应加入到普及科学知识、宣传科学精神的行列中来。 ?? ?? ??科学史在帮助公众理解科学方面,可以起到重要的作用。通过科学史,非专业人员可以对科学理论及其演变过程有一个大
伊凡·V·马尔可夫著牛刚、王志明译的《晶体生长初步(成核晶体生长和外延基础第2版)(精)/材料科学经典著作选译》是一本关于成核、晶体生长和外延的经典教科书,也是一本对于材料、物理、电子类专业的高年级本科生、研究生以及相关研究人员、教师的很好有价值的参考书。与该领域同类的书籍相比,本书不但是很早的专著之一,而且也是影响力很大的一本。 本书没有过多涉及晶体生长和外延的相关基本技术手段,而是集中笔墨介绍了关于晶体生长和外延的热力学和原子动力学理论,并将这些理论与实际中遇到的现象紧密结合在一起,作了深入浅出的解释。本书内容翔实、结构清晰、说理明快,读者会有很大收获。
内容简介
本书较为系统地阐述了晶体材料中存在的各种对称性和晶体的取向特性,并以无机晶体材料为背景,介绍了常见的晶体结构特征及晶体结构检测原理。在完整晶体结构的基础上,还分析讨论了晶体的缺陷特征,包括点缺陷、位错的弹性特征、晶界的取向特征等。 借助本书,读者可从材料工程角度对材料晶体学和晶体结构知识有较深入的了解和程度的知识更新,为在材料科学与工程领域中进行新材料的研究和新工艺的开发奠定良好的晶体学基础。 本书可作为材料专业硕士研究生的专业基础教材,或材料专业本科学生、博士研究生的专业参考书;也可供从事材料科学与工程研究的科研人员、高等学校教师或相关企业工程技术人员阅读。
本书从晶界与晶体塑性关系着手,基于原子尺度、纳观尺度、微观尺度、介观尺度和宏观尺度,系统介绍了晶界基本结构与晶体材料力学行为之间的关系,强调了晶界对于工程应用领域中的多晶体材料所具有的重要意义。本书共六章,章为晶界结构与缺陷,第2章为晶界变形的基本机制,第3章为冷变形晶界?,第4章为蠕变与高温塑性晶界动力学,第5章为晶间疲劳,第6章为晶间偏析与晶体材料的断裂。