本书为引进译著。作者全面梳理并总结了其团队在光学制造方面的研究结果。全书包括两大部分：第Ⅰ部分基本相互作用 材料科学，从摩擦学、流体动力学、固体力学、断裂力学、电化学等光学制造的基础理论出发，系统分析了从宏观到微观的材料去除过程，定量描述了光学制造中不同工艺参数与光学元件性能之间的关系。第Ⅱ部分应用 材料技术，详细叙述了工程应用的光学制造，汇总了现代光学制造中缺陷的检测和评价方法，剖析了多方面工艺优化的可行性，说明了各类新的抛光技术；针对高能激光系统要求的高损伤阈值光学元件，书末还给出了高能激光元件制作的关键工艺实例。 本书既是光学制造理论的梳理，也是现代光学制造技术与应用的汇总，涵盖了从光学制造工艺到光学元件性能评价等多方面的理论与实践，是一部兼具理论、方法和实际应用价值的
![国外电子与通信教材系列 通信系统微波滤波器 基础设计与应用 [英]Richard 【正版】](http://img3m2.ddimg.cn/53/17/11759490422-1_l.jpg)
光刻技术是所有微纳器件制造的核心技术。特别是在集成电路制造中，正是由于光刻技术的不断提高才使得摩尔定律（器件集成度每两年左右翻一番）得以继续。本书覆盖现代光刻技术的主要方面，包括设备、材料、仿真（计算光刻）和工艺，内容直接取材于 集成电路制造技术，为了保证 性，特别侧重于 32nm 节点以下的技术。书中引用了很多工艺实例，这些实例都是经过生产实际验证的，希望能对读者有所启发。
![无线电收音机及无线电路的设计与制作 [日]铃木宪次 王庆 【正版图书】](http://img3m3.ddimg.cn/70/2/11770821583-1_l.jpg)
![数字通信原理 [美]加拉格 杨鸿文 【正版保证】](http://img3m3.ddimg.cn/74/19/11758572713-1_l.jpg)
![扬声器与音箱设计手册 [美]约翰·尔格 沈 【正版】](http://img3m3.ddimg.cn/59/2/11758253423-1_l.jpg)
本书是一部论述GaAs基光电阴极的专著，是作者承担国家科研项目的总结。全书共12章，介绍三代微光像增强器、数字微光器件与电子源、GaAs基光电阴极的发展概况；研究GaAs光电阴极的光电发射与光谱响应理论、多信息量测控与评估系统、激活工艺及其优化；研究GaAs基光电阴极中电子与原子结构；提出变组分变掺杂GaAs基光电阴极物理概念，探索反射式和透射式变掺杂宽带响应GaAs、窄带响应GaAlAs和近红外响应InGaAs光电阴极理论，在微光像增强器中进行实践，并分析GaAs光电阴极及像增强器的分辨力；*后针对新一代微光像增强器研究，对GaAs基光电阴极的相关研究进行回顾与展望。
![模拟集成电路设计 [加拿大]David 【正版图书】](http://img3m3.ddimg.cn/92/0/11770821803-1_l.jpg)
